[发明专利]一种C-19位单酰基化雷公藤内酯醇衍生物的合成方法

权利要求书

1.一种如通式I所示的C-19位单酰基化雷公藤内酯醇衍生物的合成方法，其特征在于，所述合成方法包括以下步骤：

i)式V所示化合物与酰化试剂和缚酸剂在反应溶剂中在-78～0℃反应，

ii)将酸溶液加入步骤i)获得的反应液中淬灭反应；

iii)将经步骤ii)淬灭的反应液用萃取溶剂稀释萃取，得到的有机相经饱和氯化钠水溶液洗、浓缩、柱层析纯化得到通式I所示的C-19位单酰基化雷公藤内酯醇衍生物，

各式中，

R₁是取代或未取代的以下基团：C3-C8环烷基、C8环烯基、C6-C10芳基、C7-C15芳基烷基或4-8元杂芳基；

R₂是OR₃、F或SH，R₃选自：H、Boc、TBS、TES、CH₂SCH₃、CH₂OCH₃、-CH₂OP(＝O)(OH)₂、-CH₂OP(＝O)(OBn)₂、-OP(＝O)(OH)₂、-OP(＝O)(OBn)₂、-COOH；

*表示α-构型或β-构型；

各X独立为H；

上述各取代独立指基团上的一个或多个氢原子被选自下组的取代基取代：卤素、未取代或卤代的C1-C8烷基、未取代或卤代的C1-C8烷氧基；

其中，所述杂芳基包含选自下组的1-3个杂原子：N、O或S，

其中所述酰化试剂选自：酰氯、酰溴和酸酐；

所述缚酸剂选自：六甲基二硅基胺基锂、六甲基二硅基胺基钠、六甲基二硅基胺基钾和2,2,6,6-四甲基哌啶基氯化镁氯化锂复合物。

2.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，R₁是取代或未取代的以下基团：C6环烷基、C6-C10芳基或4-8元杂芳基，所述取代指基团上的一个或多个氢原子被选自下组的取代基取代：卤素、未取代或卤代的C1-C4烷基、未取代或卤代的C1-C3烷氧基。

3.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，R₁是环己基、苯基、2-呋喃基、对甲基苯基、对甲氧基苯基或对三氟甲基苯基。

4.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，R₂是OH、OBoc、OCH₂OP(＝O)(OH)₂、-OCH₂OP(＝O)(OBn)₂、OTBS、OTES、OCH₂SCH₃或OCH₂OCH₃。

5.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，R₂是β-OH、OBoc、OCH₂OP(＝O)(OH)₂或-OCH₂OP(＝O)(OBn)₂。

6.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，各X均为H；R₁为苯基，且R₂为OH。

7.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，所述反应溶剂选自：四氢呋喃、2-甲基四氢呋喃、乙腈和丙酮。

8.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，缚酸剂和酰化试剂的加料顺序是先加酰化试剂后加缚酸剂，或先加缚酸剂后加酰化试剂。

9.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，所述酰化试剂为苯甲酰氯、对三氟苯甲酰氯、对甲氧基苯甲酰氯或苯甲酸酐。

10.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，所述缚酸剂为2,2,6,6-四甲基哌啶基氯化镁氯化锂复合物或六甲基二硅基胺基锂。