[发明专利]一种GaAs-锑烯异质结太阳电池及其制备方法在审
申请号: | 201810538952.7 | 申请日: | 2018-05-30 |
公开(公告)号: | CN108807584A | 公开(公告)日: | 2018-11-13 |
发明(设计)人: | 张曙光;温雷 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
主分类号: | H01L31/07 | 分类号: | H01L31/07;H01L31/0224;H01L31/0304;H01L31/18 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 陈智英 |
地址: | 510640 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 异质结太阳电池 太阳能电池 异质结太阳能电池 光电转换效率 分子束外延 二维原子 晶体材料 直接生长 背电极 顶电极 异质结 衬底 带隙 匹配 | ||
本发明属于太阳能电池的技术领域,公开了一种GaAs‑锑烯异质结太阳电池及其制备方法。所述GaAs‑锑烯异质结太阳能电池由下至上依次包括背电极、GaAs衬底、锑烯层、顶电极。本发明通过在GaAs片上通过分子束外延方式直接生长二维原子晶体材料锑烯,制备的太阳电池具有GaAs/锑烯异质结,锑烯层与GaAs之间形成良好的带隙匹配,实现太阳能电池高的光电转换效率。
技术领域
本发明属于太阳能电池的技术领域,具体涉及一种GaAs-锑烯异质结太阳电池及其制备方法。
背景技术
石墨烯是一种由碳原子形成的蜂窝状平面薄膜,具有高电导率,高透光度,高电子迁移率,功函数可调等优点,可被用来制备高电子迁移率晶体管等光电器件。然而,以石墨烯为代表的IV族元素二维原子晶体材料带隙为零或趋近于零,极大地限制了其在光电子领域中的应用前景。石墨烯与GaAs接触可以形成肖特基接触,利用肖特基结可以制备太阳能电池。但是石墨烯-GaAs肖特基结太阳电池的光电转换率仍有待提高。硅太阳电池也是如此,其光电性能也有待改善。
发明内容
本发明的目的在于提供一种新结构的太阳电池GaAs-锑烯异质结太阳电池。本发明的GaAs-锑烯异质结太阳电池不仅工艺简单成本低,而且明显提高太阳电池的光电转换效率。
本发明的另一目的在于提供上述GaAs-锑烯异质结太阳电池的制备方法。
本发明的目的通过以下技术方案实现:
一种GaAs-锑烯异质结太阳能电池,由下至上依次包括背电极、GaAs衬底、锑烯层、顶电极。
所述锑烯层生长完后,需将生长完锑烯层的GaAs衬底进行退火处理。退火的温度为150~500℃,退火的时间为5~30分钟。
所述背电极为常规的电极材料,优选为金电极、银电极或铝电极;厚度为50~400nm。
所述顶电极为常规的电极材料,优选为导电银胶或银丝;厚度为100~3000nm。
所述GaAs衬底为GaAs外延片,优选为N型GaAs片,GaAs片的电子浓度为1×1017-9×1017cm-3。
所述锑烯层的层数为1~10层。
所述GaAs-锑烯异质结太阳能电池,还包括GaAs重构层,所述GaAs重构层位于GaAs衬底和锑烯层之间。所述GaAs重构层的厚度为0.5~5μm。
所述GaAs-锑烯异质结太阳能电池的制备方法,包括以下步骤:
(1)在GaAs衬底的一面镀上背电极,将GaAs衬底中镀有背电极的一面称为下表面,另一面称为上表面;
(2)采用分子束外延法,在GaAs衬底的上表面生长GaAs重构层;
(3)采用分子束外延(MBE)法,在GaAs重构层表面生长锑烯层;
(4)在锑烯层上制备顶电极。
步骤(1)中在GaAs衬底的一面镀上背电极,具体步骤为:
(S1)镀背电极:将GaAs晶圆上蒸镀一层金属,作为背电极;所述金属为常规的电极材料;背电极的厚度为50~400nm;
(S2)切割:将镀有背电极的GaAs晶圆采用激光线切割成方片,然后去除方片表面的杂质,获得一面镀有背电极的GaAs片。
所述去除方片表面的杂质是指将切割好的GaAs片依次采用丙酮、乙醇中超声清洗,然后用超纯水清洗,再采用稀盐酸溶液处理,超纯水清洗,并吹干。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的