[发明专利]一种彩色滤光片的制备基板及彩色滤光片基板的制造方法

权利要求书

1.一种彩色滤光片的制备基板，其特征在于，包括：

有效区域，用于在其内形成矩阵排列的第一颜色色阻块、第二颜色色阻块和第三颜色色阻块；

非有效区域，设置在所述有效区域的周围；

对位精度检测图案，设置在所述非有效区域内，且包括第一对位精度检测图案、第二对位精度检测图案和第三对位精度检测图案；

其中，当利用一共用光罩图案在所述制备基板上形成矩阵排列的所述第一颜色色阻块时，根据所述光罩图案投影在所述第一对位精度检测图案中的位置而调整修正所述光罩图案的位置；

当利用所述共用光罩图案在所述制备基板上形成矩阵排列的所述第二颜色色阻块时，根据所述光罩图案投影在所述第二对位精度检测图案中的位置而调整修正所述光罩图案的位置；

当利用所述共用光罩图案在所述制备基板上形成矩阵排列的所述第三颜色色阻块时，根据所述光罩图案投影在所述第三对位精度检测图案中的位置而调整修正所述光罩图案的位置，从而利用同一所述光罩图案而在所述制备基板上形成所述第一颜色色阻块、所述第二颜色色阻块和所述第三颜色色阻块；

所述共用光罩图案包括第一光罩对位图案、第二光罩对位图案和第三光罩对位图案；

其中，所述第一光罩对位图案与所述第一对位精度检测图案配合以调整修正所述光罩图案的位置，从而利用所述光罩图案在所述制备基板上形成所述第一颜色色阻块；

所述第二光罩对位图案与所述第二对位精度检测图案配合以调整修正所述光罩图案的位置，从而利用所述光罩图案在所述制备基板上形成所述第二颜色色阻块；

所述第三光罩对位图案与所述第三对位精度检测图案配合以调整修正所述光罩图案的位置，从而利用所述光罩图案在所述制备基板上形成所述第三颜色色阻块；

所述第一对位精度检测图案和所述第二对位精度检测图案之间的距离与所述第一光罩对位图案和所述第二光罩对位图案之间的距离不同，且所述第二对位精度检测图案和所述第三对位精度检测图案之间的距离与所述第二光罩对位图案和所述第三光罩对位图案之间的距离不同，且所述第一对位精度检测图案和所述第三对位精度检测图案之间的距离与所述第一光罩对位图案和所述第三光罩对位图案之间的距离不同。

2.根据权利要求1所述的制备基板，其特征在于，

在利用所述共用光罩图案在所述制备基板上形成所述第一颜色色阻块时，调整修正所述共用光罩图案的位置以使所述第一光罩对位图案的中心与所述第一对位精度检测图案的中心重合；

在利用所述共用光罩图案在所述制备基板上形成所述第二颜色色阻块时，将所述共用光罩图案偏移一个子像素的距离，并根据所述光罩图案投影在所述第二对位精度检测图案中的位置而调整修正，以使所述第二光罩对位图案的中心与所述第二对位精度检测图案的中心重合；

在利用所述共用光罩图案在所述制备基板上形成所述第二颜色色阻块时，将所述共用光罩图案在第一方向上继续偏移一个子像素的距离，并根据所述光罩图案投影在所述第三对位精度检测图案中的位置而调整修正，以使所述第三光罩对位图案的中心与所述第三对位精度检测图案的中心重合。

3.根据权利要求2所述的制备基板，其特征在于，所述第一光罩对位图案、所述第二光罩对位图案和所述第三光罩对位图案分别为正方形；而所述第一对位精度检测图案、所述第二对位精度检测图案和所述第三对位精度检测图案分别为中空的正方形边框。

4.根据权利要求3所述的制备基板，其特征在于，当采用接近式曝光方法在所述制备基板上形成所述第一颜色色阻块、所述第二颜色色阻块和所述第三颜色色阻块时，所述第一光罩对位图案、所述第二光罩对位图案和所述第三光罩对位图案的边长不小于30微米；

而当采用扫描式曝光方法在所述制备基板上形成所述第一颜色色阻块、所述第二颜色色阻块和所述第三颜色色阻块时，所述第一光罩对位图案、所述第二光罩对位图案和所述第三光罩对位图案的边长不小于10微米。

5.根据权利要求3所述的制备基板，其特征在于，当所述第一光罩对位图案、所述第二光罩对位图案或所述第三光罩对位图案分别对准所述第一对位精度检测图案、所述第二对位精度检测图案或所述第三对位精度检测图案时，光罩对位图案中的任意一边与对位精度检测图案对应一侧的边框之间的距离不小于20微米。