[发明专利]一种剥离液再生工艺段的光刻胶去除方法

说明书

本发明公开了一种剥离液再生工艺段的光刻胶去除方法，包括以下步骤：1)、进料：除去水分后的物料由进料管进入到薄膜蒸发器内，所述进料管上设置有换热器，所述换热器将物料的温度降至操作压力下的泡点以下；2)、物料分离：物料进入薄膜蒸发器后，有效成分被蒸发实现与光刻胶的分离，被蒸发的气态物料由排料管导出进入下一级工序；3)、光刻胶导出：光刻胶进入到薄膜蒸发器下端的残渣中间罐进行缓冲过渡，然后导出。本发明不仅能够实现去除物料中光刻胶的目的，且能够有效防止薄膜蒸发器内出现闪蒸。

技术领域

本发明涉及剥离液回收技术领域，具体涉及一种剥离液再生工艺段的光刻胶去除方法。

背景技术

近几年国内电子制造产业发展迅速，剥离液等电子化学品的使用量也大为增加。通常在液晶显示面板、半导体集成电路等工艺制造过程中，需要用剥离液将涂覆在微电路保护区域上作为掩膜的光刻胶除去。通常使用的剥离液主要包括有机胺和极性有机溶剂的混合物，并含有以少量水为代表的轻组分。

在剥离液应用过程中产生大量剥离液废液，该废液中除了含有少量高分子树脂和水之外，大部分是具有利用价值的有机组分。通常清洗光刻胶需要大量的溶剂，而且这些溶剂价格昂贵，从资源化的观点出发，循环再生这些溶剂不仅可以减少对环境的危害，还能减低企业的生产成本。

剥离液的回收工艺主要包去除水分段、光刻胶去除段和精制回收段，即剥离液废液依次经过水分去除、光刻胶去除和精制会收获得剥离液。

发明内容

本发明的目的在于提供一种剥离液再生工艺段的光刻胶去除方法，不仅能够实现去除物料中光刻胶的目的，且能够有效防止薄膜蒸发器内出现闪蒸。

本发明通过下述技术方案实现：

一种剥离液再生工艺段的光刻胶去除方法，包括以下步骤：

1)、进料：除去水分后的物料由进料管进入到薄膜蒸发器内，所述进料管上设置有换热器，所述换热器将物料的温度降至操作压力下的泡点以下；

2)、物料分离：物料进入薄膜蒸发器后，有效成分被蒸发实现与光刻胶的分离，被蒸发的气态物料由排料管导出进入下一级工序；

3)、光刻胶导出：光刻胶进入到薄膜蒸发器下端的残渣中间罐进行缓冲过渡，然后导出。

本发明所述薄膜蒸发器、换热器均为现有技术，所述残渣中间罐具体是指一种罐体，用于过渡未被蒸发的光刻胶。

本发明所述的物料中含有20％的光刻胶，80％的有效成分。

本发明的工作过程：物料经脱水精馏塔脱水后，然后经过换热器换热后进入薄膜蒸发器内，光阻剂(光刻胶)和有效成分在薄膜蒸发器内被分离，效成分被汽化成气态，由于光阻剂属于高分子聚合物沸点很高，所以无法被蒸发，无法被蒸发的液体在薄膜蒸发器内由于重力的作用进入到残渣中间罐进行缓冲过渡，然后导出，被蒸发的气态物料进入下一级工序。

因为薄膜蒸发器中的操作压力低于脱水精馏塔的操作压力，经脱水精馏塔脱水中的物料如果直接进入薄膜蒸发器中会产生严重的闪蒸现象，闪蒸现象会导致严重的雾沫夹带，即很多含有光阻剂的雾沫会进入到下一级工序(精制塔)。

本发明通过将物料导入薄膜蒸发器，在薄膜蒸发器内实现光阻剂(光刻胶)和有效成分的分离。

同时，本发明通过设置换热器，脱水后的物料在换热器内将温度降低至操作压力下的泡点以下，这样物料为过冷物料，过冷物料进入薄膜蒸发器可以有效防止闪蒸。

进一步地，残渣中间罐的底部设置有出料管，所述出料管的末端连接有收集体，所述出料管上设置有残渣出料泵。

进一步地，残渣中间罐设置有夹层结构，在夹层结构内设置有加热机构。