[发明专利]一种半导体激光器件及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201810525613.5 申请日: 2018-05-28
公开(公告)号: CN108923256A 公开(公告)日: 2018-11-30
发明(设计)人: 胡海;何晋国 申请(专利权)人: 深圳瑞波光电子有限公司
主分类号: H01S5/32 分类号: H01S5/32;H01S5/022
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 李庆波
地址: 518052 广东省深圳市南山区西丽镇*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 半导体层 半导体激光器件 第一金属层 第二金属层 焊料层 半导体芯片 绝缘保护层 依次层叠 侧面 成品率 申请 制作 覆盖
【说明书】:

本申请公开了一种半导体激光器件及其制作方法。该半导体激光器件包括:半导体芯片,包括依次层叠设置的第一金属层、第一半导体层、PN结层、第二半导体层以及第二金属层;第一绝缘保护层,设置在半导体芯片的侧面上,用于覆盖第一金属层、第一半导体层、PN结层、第二半导体层以及第二金属层的侧面;焊料层,第一金属层设置在焊料层上;其中,第一绝缘保护层用于隔绝焊料层和第一金属层、第一半导体层、PN结层、第二半导体层以及第二金属层的接触。通过上述方式,本申请能够提高半导体激光器件的成品率和可靠性。

技术领域

本申请涉及半导体器件制造领域,特别是涉及一种半导体激光器件及其制作方法。

背景技术

由于芯片与焊料烧结的过程是在高温条件下,因此芯片上的金属和焊料会发生融合,焊料处于熔融状态,芯片由于重力作用或者外部加压力下沉,这个过程中,焊料往往被挤压、在芯片两侧溢出,而焊料被挤出部分,往往堆积在芯片的两侧,堆积的高度大于芯片PN结位置,从而导致芯片侧壁的N型半导体区域和焊料直接接触;由于焊料是导电材料,致使芯片P面金属电极和N面金属电极通过焊料和N型半导体区域连接,造成短路,芯片报废。

申请内容

本申请主要解决的问题是提供一种半导体激光器件及其制作方法,能够有效地防止焊料层与第二金属层、第二半导体层的直接接触,避免了第一金属层与第二金属层连通而造成的芯片短路问题,提高了半导体激光器件的成品率和可靠性。

为解决上述技术问题,本申请采用的技术方案是提供一种半导体激光器件,该半导体激光器件包括:半导体芯片,包括依次层叠设置的第一金属层、第一半导体层、PN结层、第二半导体层以及第二金属层;第一绝缘保护层,设置在半导体芯片的侧面上,用于覆盖第一金属层、第一半导体层、PN结层、第二半导体层以及第二金属层的侧面;焊料层,第一金属层设置在焊料层上;其中,第一绝缘保护层用于隔绝焊料层和第一金属层、第一半导体层、PN结层、第二半导体层以及第二金属层的接触。

其中,该半导体激光器件包括:第二绝缘保护层,设置在第一金属层远离第一半导体层的一表面上;其中,第二绝缘保护层与第一绝缘保护层为一体结构。

其中,该半导体芯片还包括:电流阻挡层,设置在第一金属层与第一半导体层之间,用于至少部分覆盖第一金属层。

其中,该半导体激光器件还包括:热沉,包括依次层叠设置的第一电极和热沉基板;其中,焊料层设置在第一电极远离热沉基板的一侧,第一电极通过焊料层与第一金属层电连接。

其中,该热沉还包括:第二电极,设置在热沉基板上;其中,第二电极通过引线与第二金属层电连接。

其中,第一金属层采用P面金属材料制成,第一半导体层采用P-掺杂的半导体材料制成;第二金属层采用N面金属材料制成,第二半导体层采用N-掺杂的半导体材料制成。

为解决上述技术问题,本申请采用的另一技术方案是一种半导体激光器件的制作方法,该制作方法包括:提供一半导体芯片,该半导体芯片包括依次层叠设置的第一金属层、第一半导体层、PN结层、第二半导体层以及第二金属层;在半导体芯片的侧面设置一第一绝缘保护层,其中,第一绝缘保护层覆盖第一金属层、第一半导体层、PN结层、第二半导体层以及第二金属层的侧面;提供一焊料层;在焊料层上设置半导体芯片和第一绝缘保护层,其中,第一金属层设置在焊料层上;其中,第一绝缘保护层隔绝焊料层和第一金属层、第一半导体层、PN结层、第二半导体层以及第二金属层的接触。

其中,在提供一焊料层步骤之前,该制作方法还包括:在第一金属层远离第一半导体层的一表面上设置第二绝缘保护层;

其中,第二绝缘保护层与第一绝缘保护层为一体结构。

其中,该制作方法还包括:提供一热沉;利用焊料层连接半导体芯片与热沉;其中,该热沉包括依次层叠设置的第一电极和热沉基板,第一电极通过焊料层与第一金属层电连接。

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