[发明专利]蒸镀装置及蒸镀方法有效
申请号: | 201810524337.0 | 申请日: | 2018-05-28 |
公开(公告)号: | CN108728801B | 公开(公告)日: | 2019-11-12 |
发明(设计)人: | 匡友元 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/26 | 分类号: | C23C14/26;C23C14/54;H01L51/56 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人: | 林才桂;鞠骁 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 坩埚 蒸镀装置 坩埚盖 内侧壁 外侧壁 移动部 第一区域 蒸镀材料 加热源 蒸镀 支架 受热均匀度 坩埚外侧壁 第二区域 径向温差 电热丝 底面 顶面 竖直 投影 | ||
1.一种蒸镀装置,其特征在于,包括筒状的加热源(10)、容置在加热源(10)内的坩埚盖(20)、第一坩埚(30)、第二坩埚(40)及移动部(50)以及支架(80);
所述第一坩埚(30)、第二坩埚(40)及移动部(50)均设于坩埚盖(20)的下方;所述第一坩埚(30)固定在所述支架(80)上;所述第一坩埚(30)及第二坩埚(40)均包括内侧壁、设于内侧壁外的外侧壁及连接内侧壁与外侧壁远离坩埚盖(20)一端的底面;所述坩埚盖(20)安装于第一坩埚(30)的外侧壁上,所述坩埚盖(20)中心设有开孔(21),所述第一坩埚(30)的内侧壁靠近坩埚盖(20)的一端与坩埚盖(20)之间在竖直方向存在间隔;所述第一坩埚(30)的外侧壁的高度大于或等于其内侧壁的高度;所述第二坩埚(40)固定于移动部(50)的顶面;所述第一坩埚(30)的内侧壁在竖直方向的投影位于所述第二坩埚(40)外侧壁以外;
所述加热源(10)包括筒状的壳体(11)及套设于壳体(11)上的电热丝(12),所述壳体(11)具有与坩埚盖(20)及第一坩埚(30)所在位置对应的第一区域(111)以及位于第一区域(111)下方的第二区域(112);电热丝(12)在第一区域(111)的密度大于电热丝(12)在第二区域(112)的密度;
还包括容置在加热源(10)内的第三坩埚(60);
所述第三坩埚(60)设于坩埚盖(20)的下方;所述第三坩埚(60)包括内侧壁、设于内侧壁外的外侧壁及连接内侧壁与外侧壁远离坩埚盖(20)一端的底面;所述第一坩埚(30)的内侧壁在竖直方向的投影位于所述第三坩埚(60)外侧壁以外;所述第三坩埚(60)的内侧壁在竖直方向的投影位于所述第二坩埚(40)外侧壁以外;所述第一坩埚(30)的内侧壁的内表面底部设有第一限位部(31),所述第三坩埚(60)外侧壁的外表面顶部设有第二限位部(61),所述第一限位部(31)在竖直方向的投影与所述第二限位部(61)在竖直方向的投影至少部分重叠,所述第一限位部(31)位于第二限位部(61)下方;所述第三坩埚(60)的内侧壁的内表面底部设有弹性限位单元(62),所述弹性限位单元(62)在竖直方向上的投影与所述第二坩埚(40)的外侧壁在竖直方向上的投影至少部分重叠;当所述第三坩埚(60)靠近坩埚盖(20)的一端与坩埚盖(20)之间存在间隔且第二坩埚(40)外侧壁位于弹性限位单元(62)下方时,向上移动移动部(50),第二坩埚(40)的外侧壁对第三坩埚(60)的弹性限位单元(62)进行推动使第三坩埚(60)上升;当所述第三坩埚(60)靠近坩埚盖(20)的一端与坩埚盖(20)接触且第二坩埚(40)外侧壁位于弹性限位单元(62)下方时,向上移动移动部(50),第二坩埚(40)的外侧壁压缩弹性限位单元(62)而移动至第三坩埚(60)的内侧壁内。
2.如权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述第一坩埚(30)及第二坩埚(40)的内侧壁及外侧壁均为圆筒状;所述第二坩埚(40)的内侧壁及外侧壁的轴线与所述第一坩埚(30)的内侧壁及外侧壁的轴线均重合。
3.如权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述第一坩埚(30)、第二坩埚(40)及第三坩埚(60)的内侧壁及外侧壁均为圆筒状;所述第二坩埚(40)的内侧壁及外侧壁的轴线、所述第一坩埚(30)的内侧壁及外侧壁的轴线以及所述第三坩埚(60)的内侧壁及外侧壁的轴线均重合。
4.如权利要求2或3所述的蒸镀装置,其特征在于,所述坩埚盖(20)的形状为圆形。
5.如权利要求2或3所述的蒸镀装置,其特征在于,所述壳体(11)为圆筒状;所述壳体(11)的轴线与第一坩埚(30)内侧壁的轴线重合。
6.如权利要求5所述的蒸镀装置,其特征在于,所述开孔(21)对应第一坩埚(30)内侧壁的轴线设置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810524337.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类