[发明专利]一种清洗系统在审

专利信息
申请号: 201810510464.5 申请日: 2018-05-24
公开(公告)号: CN108746010A 公开(公告)日: 2018-11-06
发明(设计)人: 吴哲辰;施宗君;侯翔殷 申请(专利权)人: 友达光电(昆山)有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B13/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;祁建国
地址: 215300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 清洗装置 运动组件 传感器 水幕 第二检测 检测装置 检测组件 清洗系统 输送平台 组件设置 承载面 分叉 交线 相交 检测
【说明书】:

发明涉及一种清洗系统,包括清洗装置和检测装置,该清洗装置包括输送平台和机架,其中该清洗装置形成水幕,且该水幕与该输送平台的承载面相交于交线;该检测装置包括运动组件和传感器,该运动组件设置于该清洗装置的机架,该传感器包括第一检测组件和第二检测组件,其中该第一检测组件设置于该运动组件,该第二检测组件设置于该机架,该传感器用于检测该水幕是否出现分叉。

技术领域

本发明涉及显示面板生产领域,特别是涉及一种采用水幕分叉检测装置的清洗系统。

背景技术

在液晶显示面板的生产过程中,基板生产所使用的铝蚀刻液主要由硝酸(HNO3)、磷酸(H3PO4)及醋酸(CH3COOH)三种成份混合而成。

在蚀刻制程结束后,在第一初洗的水洗槽入口会加装垂直行进方向的水幕冲洗装置,通过水刀(AquaKnife,AQK或DeionizedWater,DIW)喷出清洗液形成水幕以清洗基板表面的药剂,目的在于迅速的中止蚀刻反应。若水幕因异常原因形成分叉,分叉处残留的药剂会继续蚀刻基板,造成膜面蚀刻不均匀,即产生模色异常(MURA)。且因水幕分叉的现象无法被流量计与压力计监控,只能以人为查验,或是在产品的质量控制(manufacturingquality control,MQC)时检测异常,在发生分叉到发现异常这段期间通过的产品皆为不良品,造成质量与产能上的损害。

发明内容

本发明之实施例提出了一种采用水幕分叉检测装置的清洗系统,包括:

清洗装置,包括输送平台和机架,其中该清洗装置形成水幕,且该水幕与该输送平台的承载面相交于交线;

检测装置,包括运动组件,设置于该清洗装置的机架;以及传感器,该传感器包括第一检测组件和第二检测组件,其中该第一检测组件设置于该运动组件,该第二检测组件设置于该机架,该传感器用于检测该水幕是否出现分叉。

本发明之实施例所述的所述的清洗系统,其中该运动组件包括导轨与滑块,其中该导轨平行于该交线,该滑块设置于该导轨且沿该交线方向往复移动。

本发明之实施例所述的所述的清洗系统,其中该运动组件还包括动力模块,该动力模块具体包括电机、动力输出齿轮、皮带和皮带轮,其中该皮带以该皮带轮支撑,且该皮带与该滑块连接,而该电机通过该动力输出齿轮带动该皮带运动,以使该滑块在该滑轨上运动。

本发明之实施例所述的所述的清洗系统,其中该第一检测组件和该第二检测组件分别位于该水幕的两侧。

本发明之实施例所述的所述的清洗系统,其中该传感器为光传感器。

本发明之实施例所述的所述的清洗系统,其中该第一检测组件为光信号发射/接收器,该第二检测组件为反射板。

本发明实施例所述的所述的清洗系统,其中该检测装置还包括报警组件,与该传感器电性连接,用于当该水幕分叉时发出报警信号。

本发明之另一实施例还提出一种清洗系统的水幕分叉检测方法,应用于上述清洗系统,包括:

设定状态阈值;启动该清洗装置,清洗液通过该清洗装置的水刀喷出以形成水幕;启动该检测装置,使该检测装置的传感器移动并持续发送检测信号,该检测信号穿过该水幕后被该传感器接收形成状态信号;如该状态信号小于该状态阈值,则该水幕正常;如该状态信号大于或等于该状态阈值,该检测装置的报警组件发出报警信号,该输送平台停止输送基板。

附图说明

图1是本发明实施例的一种采用检测装置的清洗系统的前视示意图。

图2是本发明实施例的一种采用检测装置的清洗系统的侧视示意图。

图3是本发明实施例的检测装置的运动组件的示意图。

图4是本发明实施例的检测清洗系统水幕分叉的工作流程图。

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