[发明专利]一种活塞环表面超厚类金刚石薄膜涂层制备方法

权利要求书

1.一种活塞环表面超厚类金刚石薄膜涂层制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)活塞环脱脂喷砂，清洗，然后进行活塞环夹装，设置五组靶材，其中第二组靶材安装铬靶，第一、第三、第四、第五组靶材安装碳靶；铬靶设置4个靶位，每个碳靶设置3个靶位；

(2)装夹完成后，推入真空涂层设备中，密闭抽真空，然后加热；

(3)加热完成后，依次启动第二组靶材的每个靶位，进行刻蚀，刻蚀时间为每个靶位1～2分钟，刻蚀时在活塞环上加载800～1200V的高偏压，以100～200sccm的流量向真空室内通入氩气，靶材电流控制在50～100A，循环1～2次；然后再同时启动第二组靶材的每个靶位，进行刻蚀，刻蚀时间为1～3分钟，刻蚀时在活塞环上加载800～1200V的高偏压，以100～200sccm的流量向真空室内通入氩气，靶材电流控制在50～100A，冷却后再次启动，循环10～15次；

(4)刻蚀完成后，启动第二组靶材进行铬涂层打底，时间为2～4小时，打底时在活塞环上加载0～35V的低偏压，以1000～1500sccm的流量向真空室内通入氩气，靶材电流控制在150～200A；

(5)铬涂层打底完成后，依次启动第一、第五组靶材的每个靶位进行刻蚀，时间为每个靶位刻蚀1～3分钟，刻蚀时在活塞环上加载800～1200V的高偏压，以100～200sccm的流量向真空室内通入氩气，靶材电流控制在50～100A，循环1～2次；

(6)上述刻蚀完成后，进行类金刚石薄膜涂层的沉积，同时启动第一、第三组靶材进行涂层沉积，时间为25-35分钟，然后再同时启动第四、第五组靶材进行涂层沉积，时间为25-35分钟，如此交替循环，循环次数依据涂层厚度而定；涂层沉积的条件均为：温度控制在200～235℃之间，在活塞环上加载0～50V的低偏压，以200～400sccm的流量向真空室内通入氩气，靶材电流控制在50～100A；

(7)涂层结束后，降温，去真空，取出活塞环，即得。

2.根据权利要求1所述的活塞环表面超厚类金刚石薄膜涂层制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中真空加热温度为350-450℃，持续时间为2-4小时。