[发明专利]非易失性存储装置、半导体装置以及电子设备有效
| 申请号: | 201810466960.5 | 申请日: | 2018-05-16 |
| 公开(公告)号: | CN108962327B | 公开(公告)日: | 2023-08-25 |
| 发明(设计)人: | 宫崎竹志 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号: | G11C16/34 | 分类号: | G11C16/34;G11C16/30 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 邓毅;李庆泽 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 非易失性 存储 装置 半导体 以及 电子设备 | ||
1.一种非易失性存储装置,其中,该非易失性存储装置具有:
第1参考单元,其处于擦除状态与程序状态之间的中间状态或程序状态;
擦除状态的第2参考单元;
第1电流镜电路,其在所述第1参考单元的选择状态下生成与在所述第1参考单元中流过的电流成比例的第1镜像电流;
第2电流镜电路,其在所述第2参考单元的选择状态下生成与在所述第2参考单元中流过的电流成比例的第2镜像电流;
读出放大器,其通过对在存储器单元中流过的电流与参考电流进行比较,读出所述存储器单元所存储的数据;以及
选择电路,其以在读出模式下至少根据所述第1镜像电流生成所述参考电流、在校验模式下根据所述第2镜像电流生成所述参考电流的方式,设定所述第1参考单元或所述第2参考单元的选择状态。
2.根据权利要求1所述的非易失性存储装置,其中,
所述选择电路以在读出模式下生成所述第1镜像电流、在校验模式下不生成所述第1镜像电流的方式,设定所述第1参考单元与所述第1电流镜电路的连接状态或所述第1电流镜电路的连接状态。
3.根据权利要求1或2所述的非易失性存储装置,其中,
在读出模式下,根据所述第1镜像电流和所述第2镜像电流生成所述参考电流。
4.根据权利要求1或2所述的非易失性存储装置,其中,
所述第1参考单元被设定为擦除状态与程序状态之间的中间状态。
5.根据权利要求4所述的非易失性存储装置,其中,
所述选择电路以在校验模式下生成所述第2镜像电流、在读出模式下不生成所述第2镜像电流的方式,设定所述第2参考单元与所述第2电流镜电路的连接状态或所述第2电流镜电路的连接状态。
6.根据权利要求4所述的非易失性存储装置,其中,该非易失性存储装置还具有:
电压检测电路,其在电源电压高于规定电压时激活检测信号;以及
选择控制电路,其在读出模式下,在所述检测信号被激活时,以根据所述第1镜像电流生成所述参考电流的方式控制所述选择电路,在所述检测信号未被激活时,以根据所述第1镜像电流和所述第2镜像电流生成所述参考电流的方式控制所述选择电路。
7.根据权利要求1或2所述的非易失性存储装置,其中,
所述第2电流镜电路构成为能够变更镜像比。
8.根据权利要求1或2所述的非易失性存储装置,其中,
该非易失性存储装置还具有第1晶体管,该第1晶体管与所述第1电流镜电路以及所述第2电流镜电路连接,在该第1晶体管中流过所述第1镜像电流和所述第2镜像电流中的任意一方、或者所述第1镜像电流及所述第2镜像电流,
所述读出放大器包含与所述第1晶体管一起构成第3电流镜电路的第2晶体管,所述第2晶体管生成与在所述第1晶体管中流过的电流成比例的所述参考电流。
9.根据权利要求8所述的非易失性存储装置,其中,
所述第3电流镜电路根据所述第1镜像电流生成与在所述第1参考单元中流过的电流大致相同大小的电流,根据所述第2镜像电流生成在所述第2参考单元中流过的电流的β倍的电流,其中,0β1。
10.一种半导体装置,其具有权利要求1~9中的任意一项所述的非易失性存储装置。
11.一种电子设备,其具有权利要求1~9中的任意一项所述的非易失性存储装置。
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