[发明专利]非易失性存储装置、半导体装置以及电子设备有效

专利信息
申请号: 201810466960.5 申请日: 2018-05-16
公开(公告)号: CN108962327B 公开(公告)日: 2023-08-25
发明(设计)人: 宫崎竹志 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G11C16/34 分类号: G11C16/34;G11C16/30
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 邓毅;李庆泽
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 非易失性 存储 装置 半导体 以及 电子设备
【权利要求书】:

1.一种非易失性存储装置,其中,该非易失性存储装置具有:

第1参考单元,其处于擦除状态与程序状态之间的中间状态或程序状态;

擦除状态的第2参考单元;

第1电流镜电路,其在所述第1参考单元的选择状态下生成与在所述第1参考单元中流过的电流成比例的第1镜像电流;

第2电流镜电路,其在所述第2参考单元的选择状态下生成与在所述第2参考单元中流过的电流成比例的第2镜像电流;

读出放大器,其通过对在存储器单元中流过的电流与参考电流进行比较,读出所述存储器单元所存储的数据;以及

选择电路,其以在读出模式下至少根据所述第1镜像电流生成所述参考电流、在校验模式下根据所述第2镜像电流生成所述参考电流的方式,设定所述第1参考单元或所述第2参考单元的选择状态。

2.根据权利要求1所述的非易失性存储装置,其中,

所述选择电路以在读出模式下生成所述第1镜像电流、在校验模式下不生成所述第1镜像电流的方式,设定所述第1参考单元与所述第1电流镜电路的连接状态或所述第1电流镜电路的连接状态。

3.根据权利要求1或2所述的非易失性存储装置,其中,

在读出模式下,根据所述第1镜像电流和所述第2镜像电流生成所述参考电流。

4.根据权利要求1或2所述的非易失性存储装置,其中,

所述第1参考单元被设定为擦除状态与程序状态之间的中间状态。

5.根据权利要求4所述的非易失性存储装置,其中,

所述选择电路以在校验模式下生成所述第2镜像电流、在读出模式下不生成所述第2镜像电流的方式,设定所述第2参考单元与所述第2电流镜电路的连接状态或所述第2电流镜电路的连接状态。

6.根据权利要求4所述的非易失性存储装置,其中,该非易失性存储装置还具有:

电压检测电路,其在电源电压高于规定电压时激活检测信号;以及

选择控制电路,其在读出模式下,在所述检测信号被激活时,以根据所述第1镜像电流生成所述参考电流的方式控制所述选择电路,在所述检测信号未被激活时,以根据所述第1镜像电流和所述第2镜像电流生成所述参考电流的方式控制所述选择电路。

7.根据权利要求1或2所述的非易失性存储装置,其中,

所述第2电流镜电路构成为能够变更镜像比。

8.根据权利要求1或2所述的非易失性存储装置,其中,

该非易失性存储装置还具有第1晶体管,该第1晶体管与所述第1电流镜电路以及所述第2电流镜电路连接,在该第1晶体管中流过所述第1镜像电流和所述第2镜像电流中的任意一方、或者所述第1镜像电流及所述第2镜像电流,

所述读出放大器包含与所述第1晶体管一起构成第3电流镜电路的第2晶体管,所述第2晶体管生成与在所述第1晶体管中流过的电流成比例的所述参考电流。

9.根据权利要求8所述的非易失性存储装置,其中,

所述第3电流镜电路根据所述第1镜像电流生成与在所述第1参考单元中流过的电流大致相同大小的电流,根据所述第2镜像电流生成在所述第2参考单元中流过的电流的β倍的电流,其中,0β1。

10.一种半导体装置,其具有权利要求1~9中的任意一项所述的非易失性存储装置。

11.一种电子设备,其具有权利要求1~9中的任意一项所述的非易失性存储装置。

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