[发明专利]钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃及其制备方法

说明书

本发明属于玻璃制造技术领域，尤其是涉及一种钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃及其制备方法。包括玻璃基层，所述的玻璃基层一侧面上由内至外依次设有第一介质层、第一保护层、第二介质层、第二保护层、功能银层、第三保护层和第三介质层。与现有的技术相比，本钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃及其制备方法的优点在于：1、设计合理，结构牢固。2、有效的抑制了杂质离子的迁移，功能银层能得到充分保护。3、镀膜玻璃在钢化前后无颜色变化。

技术领域

本发明属于玻璃制造技术领域，尤其是涉及一种钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃及其制备方法。

背景技术

玻璃作为一种建筑材料在日常使用过程中，由于对强度的要求，需要进行钢化处理。低辐射镀膜玻璃被证明是当今最好的建筑节能玻璃。通过在普通玻璃表面镀制低辐射膜而改善其性能，有效阻隔太阳光红外区域的透过，同时能够保证可见光的高透过与普通玻璃和传统热反射镀膜玻璃相比，具有优良的节能性能、光学性能和环保性能。低辐射镀膜玻璃己被广泛应用于世界各地的建筑中，特别是经济和科学技术比较发达的国家和地区。低辐射镀膜本身随着研发的深入也在进行着更新换代，不仅满足建筑设计潮流审美的需要，而且节能性也得到进一步提高，从而被市场广泛认可以及应用。而传统的低辐射镀膜玻璃由于钢化的高温会对膜层产生氧化、晶型发生改变等不利影响，进而导致脱膜以及变色等现象的出现。因而，设计出一种新型可钢化并且钢化前后膜层结构以及质量不改变的膜系成为大家研究的热点以及难点。

发明内容

本发明的目的是针对上述问题，提供一种设计合理，结构牢固的钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃。

本发明的另一目的是提供一种钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃的制备方法。

为达到上述目的，本发明采用了下列技术方案：本钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基层，所述的玻璃基层一侧面上由内至外依次设有第一介质层、第一保护层、第二介质层、第二保护层、功能银层、第三保护层和第三介质层。

在上述的钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃中，所述的第一介质层包括SiNx层、ZnSnOx层和ZnAlOx层中的一种或多种组成；所述的第一介质层的厚度为10～55nm。

在上述的钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃中，所述的第一保护层包括第一NiCr层，所述的第一NiCr层的厚度为0.2～5nm。

在上述的钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃中，所述的第二介质层包括SiNx层、ZnSnOx层和ZnAlOx层中的一种或多种组成；所述的第二介质层的厚度为10～55nm。

在上述的钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃中，所述的第二保护层包括第三NiCr层，所述的NiCr层厚度为0.2～5nm。

在上述的钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃中，所述的功能银层包括银层，所述的银层厚度为0.2～25nm。

在上述的钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃中，所述的第三保护层包括第三NiCr层，所述的NiCr层的厚度为0.2～10nm。

在上述的钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃中，所述的第三介质层包括第三SiNx层，所述的第三介质层的厚度为10～65nm。

本钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃的制备方法，包括如下：

A、将玻璃基层置于真空环境中进行磁控溅射加工；

B、依次在玻璃基层上镀制第一介质层、第一保护层、第二介质层、第二保护层、功能银层、第三保护层和第三介质层。

在上述的钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃的制备方法中，