[发明专利]钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基层(1)，所述的玻璃基层(1)一侧面上由内至外依次设有第一介质层(2)、第一保护层(3)、第二介质层(4)、第二保护层(5)、功能银层(6)、第三保护层(7)和第三介质层(8)。

2.根据权利要求1所述的钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述的第一介质层(2)包括第一SiNx层(21)、第一ZnSnOx层(22)和第一ZnAlOx层(23)中的一种或多种组成；所述的第一介质层的厚度为10～55nm。

3.根据权利要求1所述的钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述的第一保护层(3)包括第一NiCr层(31)，所述的第一NiCr层(31)的厚度为0.2～5nm。

4.根据权利要求1所述的钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述的第二介质层(4)包括第二SiNx层(41)、第二ZnSnOx层(42)和第二ZnAlOx层(43)中的一种或多种组成；所述的第二介质层的厚度为10～55nm。

5.根据权利要求1所述的钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述的第二保护层(5)包括第二NiCr层(51)，所述的第二NiCr层(51)厚度为0.2～5nm。

6.根据权利要求1所述的钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述的功能银层(6)包括银层(61)，所述的银层(61)厚度为0.2～25nm。

7.根据权利要求1所述的钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述的第三保护层(7)包括第三NiCr层(71)，所述的第三NiCr层(71)的厚度为0.2～10nm。

8.根据权利要求1所述的钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述的第三介质层(8)包括第三SiNx层(81)；所述的第三介质层(81)的厚度为10～65nm。

9.一种钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，包括如下：

A、将玻璃基层(1)置于真空环境中进行磁控溅射加工；

B、依次在玻璃基层(1)上镀制第一介质层(2)、第一保护层(3)、第二介质层(4)、第二保护层(5)、功能银层(6)、第三保护层(7)和第三介质层(8)。

10.根据权利要求9所述的钢化前后无色差低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，步骤B中，

镀制第一介质层(2)时，阴极位所用靶材采用硅铝靶、锌铝靶和锌锡靶的一种或多种，硅铝靶的硅与铝的重量比为90:10，锌铝靶的锌与铝的重量比为98:2，锌锡靶的锌与铝的重量比为98:2，硅铝靶溅射功率为20～60Kw，锌铝靶和锌锡靶的溅射功率为20～60Kw；

镀制第一保护层(3)时，阴极位所用靶材采用镍铬靶，镍铬靶的镍与铬的重量比为80:20，镍铬靶功率为0～2Kw；

镀制第二介质层(4)时，阴极位所用靶材采用硅铝靶、锌铝靶和锌锡靶中的一种或多种，硅铝靶的硅与铝的重量比为90:10，锌铝靶的锌与铝的重量比为98:2，硅铝靶功率为20～60Kw；

镀制第二保护层(5)时，阴极位所用靶材采用镍铬靶，镍铬靶的镍与铬的重量比为80:20，镍铬靶功率为0～2Kw；

镀制功能银层(6)时，阴极位所用靶材采用银靶，银靶的银纯度为99.99％，银靶功率为2～6Kw；

镀制第三保护层(7)时，阴极位所用靶材采用镍铬靶，镍铬靶的镍与铬的重量比为80:20，镍铬靶功率为0～2Kw；

镀制第三介质层(8)时，阴极位所用靶材依次采用硅铝靶，硅铝靶的硅与铝的重量比为90:10。

硅铝靶的工艺气体用量Ar/N₂＝0.78，硅铝靶的工艺气体用量Ar/O₂＝0.67，镍铬和银靶的工作气体用量均采用纯Ar。

银靶和镍铬靶均为平面靶，硅铝靶为旋转靶。