[发明专利]一种触摸屏的制作方法

说明书

本发明适用于触摸屏生产技术领域，公开了一种触摸屏的制作方法，包括以下步骤：制备基板：沿设定路径于基板上形成基准光刻线路；至少一次通过激光光刻的方式，将设定路径偏移设定的距离形成偏移路径，沿偏移路径于基板上形成偏移光刻线路。制备第二层基板，贴合两层GFF基板完成触摸屏的sensor生产。本发明所提供的一种触摸屏的制作方法，通过增加至少一条与基准光刻线路不重叠的偏移光刻线路，可以有效的补救基准光刻线路的激光在有异物等环境因素造成的局部短路和电容值变化，从而导致的数据平整度不均匀，通道之间的潜在短路(在使用寿命中银迁移等)导致的功能不良，从而提高触控的稳定性，精度，提升用户体验，而且长期可靠性高。

技术领域

本发明属于触摸屏生产技术领域，尤其涉及一种触摸屏的制作方法。

背景技术

现有的触摸屏制作方案有湿法和干法两种方案，其中湿法方案是采用印刷蚀刻膏(或耐酸)腐蚀的方式把需要的触摸图案蚀刻出来，干法的方案为采用激光镭射的方式，把需要的触摸图案雕刻出来，这两种方案各有各的优缺点。

干法，是利用光交线路雕刻出来；光斑约0.02至0.04mm，被烧去的线间距(通道缝隙)约0.03mm左右；这么细的线肉眼是很难看得到，因此它有很好的外观视觉效果，所以干法有在外观看上去比较美观的优点,而且工艺简单，没有复杂的曝光显影蚀刻。尤其在中大屏(10寸以上)到超大屏(65寸以上)的生产上有成本和良率优势；但是目前干法蚀的生产一直存在一个问题就是因为环境的影响有大约或者接近激光光斑(0.03mm)的异物存在导致干法光刻不干净，在光刻过程中，光刻出来的粉尘、或光刻产品上的杂质阻挡激光；而光刻的粉尘是光刻过程中飘出来的，在空气中随意飘动，还有杂质是产品加工过程中无意掉落在上面的，所以都会有随机性，生产一直都存在这个问题，导致触控屏产品的触控稳定性欠佳。这些对良率和可靠性有潜在影响的杂志尺寸主要在0.03mm到0.1mm左右。

现有技术中，一般是在有效功能导电电极中间切割dummy块。这样基本可保障透明导电极之间不会形成短路，可以保障基本的功能。但是功能电极和dummy之间还有很大的量的短路问题和风险。现有技术中，也有加大光刻的功率、放慢光刻速度、在同一个地方(路径)多次光刻，或增加洁净设备改善光刻环境的方式，但易影响产品外观或成本太高，难以推广应用。

发明内容

本发明的目的在于克服上述现有技术的不足，提供了一种触摸屏的制作方法，其可以提高触控屏的触控稳定性，用户体验佳。

本发明的技术方案是：一种触摸屏的制作方法，包括以下步骤：制备基板：

通过激光光刻的方式沿设定路径于所述基板上形成基准光刻线路；

至少一次通过激光光刻的方式，将所述设定路径偏移设定的距离形成偏移路径，沿所述偏移路径于所述基板上形成与所述基准光刻线路不重叠的偏移光刻线路。

具体地，所述偏移光刻线路与所述基准光刻线路之间的距离小于0.5mm。

具体地，所述偏移光刻线路与所述基准光刻线路之间的距离为0.01至0.4mm。

具体地，所述偏移光刻线路在垂直的双层感应和驱动膜上采用。

具体地，所述基准光刻线路与所述偏移光刻线路同步形成。

或者，所述基准光刻线路与所述偏移光刻线路先后形成。

具体地，所述基准光刻线路形成后，清洗所述基板，再通过激光光刻的方式于所述基板上形成所述偏移光刻线路。

具体地，所述偏移光刻线路形成于所述基板的透明功能电极的外围。

具体地，所述基板的导电材料是透明电极，所述透明电极为I TO或纳米银线；且/或，

所述盖板采用透明材料，所述透明材料为玻璃或PI。