[发明专利]一种触摸屏的制作方法在审
| 申请号： | 201810457273.7 | 申请日： | 2018-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN108646954A | 公开（公告）日： | 2018-10-12 |
| 发明（设计）人： | 胡川;刘小军;华远洪;丁永生 | 申请（专利权）人： | 芜湖伦丰电子科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/044 | 分类号： | G06F3/044;G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市兰锋知识产权代理事务所(普通合伙) 44419 | 代理人： | 曹明兰 |
| 地址： | 241000 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 触摸屏 基板 基准光 偏移路径 偏移光 制作 长期可靠性 触摸屏生产 电容值变化 环境因素 局部短路 路径偏移 使用寿命 一次通过 用户体验 制备基板 不均匀 不重叠 激光光 平整度 短路 异物 触控 两层 贴合 制备 补救 激光 迁移 生产 | ||
1.一种触摸屏的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
制备基板：
通过激光光刻的方式沿设定路径于所述基板上形成基准光刻线路；
至少一次通过激光光刻的方式，将所述设定路径偏移设定的距离形成偏移路径，沿所述偏移路径于所述基板上形成与所述基准光刻线路不重叠的偏移光刻线路；
贴合两层所述基板和盖板形成触摸屏。
2.如权利要求1所述的一种触摸屏的制作方法，其特征在于，所述偏移光刻线路与所述基准光刻线路之间的距离小于0.5mm。
3.如权利要求1所述的一种触摸屏的制作方法，其特征在于，所述偏移光刻线路与所述基准光刻线路之间的距离为0.01至0.4mm。
4.如权利要求1所述的一种触摸屏的制作方法，其特征在于，所述偏移光刻线路在垂直的双层感应和驱动膜上采用。
5.如权利要求1所述的一种触摸屏的制作方法，其特征在于，所述基准光刻线路与所述偏移光刻线路同步形成，或者，所述基准光刻线路与所述偏移光刻线路先后形成。
6.如权利要求1所述的一种触摸屏的制作方法，其特征在于，所述基准光刻线路形成后，清洗所述基板，再通过激光光刻的方式于所述基板上形成所述偏移光刻线路。
7.如权利要求1所述的一种触摸屏的制作方法，其特征在于，所述偏移光刻线路形成于所述基板的透明功能电极的外围。
8.如权利要求7所述的一种触摸屏的制作方法，其特征在于，所述基板的导电材料是透明电极，所述透明电极为ITO或纳米银线；且/或，
所述盖板采用透明材料，所述透明材料为玻璃或PI。
9.如权利要求8所述的一种触摸屏的制作方法，所述透明材料可以弯曲和折叠；且/或，所述透明材料与可弯曲和折叠的显示器件贴合形成显示产品。
10.如权利要求1所述的一种触摸屏的制作方法，其特征在于，所述触摸屏应用在电子黑板、电子白板和人机交互的产品中。
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