[发明专利]一种双银低辐射先镀膜后夹层玻璃及其制备方法

说明书

本发明提供了一种双银低辐射先镀膜后夹层玻璃及其制备方法，属于镀膜玻璃技术领域。本夹层玻璃包括外夹层、胶层、基片和镀膜层，所述夹层和基片之间通过胶层压合，所述镀膜层自所述基片向外依次复合有十三个膜层，其中第一层为SiNx层，第二层为ZnO层,第三层Ag层，第四层为NiCr层，第五层为AZO层,第六层为SiNx层,第七层为ZnSnO层,第八层为ZnO层，第九层为Ag层，第十层为AgO层，第十一层为NiCr层，第十二层为AZO层，第十三层为SiNx层，通过逐层在基片上磁控溅射的方式生成各膜层。本发明具有成品率高、耐氧化性能好等优点。

技术领域

本发明属于镀膜玻璃技术领域，涉及一种双银低辐射先镀膜后夹层玻璃及其制备方法。

背景技术

夹层玻璃是由两片或多片玻璃之间夹了一层或多层有机聚合物中间膜，经过特殊的高温预压(或抽真空)及高温、高压工艺处理后，使玻璃和中间膜永久粘合为一体的复合玻璃产品。是目前最佳的安全玻璃产品，夹层玻璃即使碎裂，碎片也会被粘在薄膜上，破碎的玻璃表面仍保持整洁光滑。可以有效防止了碎片扎伤和穿透坠落事件的发生，随着有关幕墙玻璃的坠落伤人事件的不断出现，夹层玻璃的应用成为多地建筑安全的实施标杆，特别是在公共建筑，悬空步道，海洋馆等特殊场所，使用夹层玻璃已经成为强制性施工要求。

随着夹层玻璃运用的越来越广泛，对夹层玻璃要求也逐步提高，玻璃厚度与复合程度也不断增加。其中在夹层玻璃上镀制低辐射膜层，成为当下最受欢迎的加工方案，其通过薄膜技术与玻璃物理性特性相结合实现了建筑玻璃的多能化，然而夹层玻璃不断增加的厚度成为制约夹层玻璃镀膜的首要因素，就目前运用最广泛的磁控溅射镀膜而言，受腔室抽真空、工艺条件及玻璃本身形变影响，镀膜设备能够加工的最大玻璃厚度在13.5-18.5mm左右，这远远无法满足当前夹层玻璃的厚度要求(目前10/1.52/10,10/2.24/10规格的夹层订单正逐年增多)。因此对先镀后夹产品工艺技术进行开发及应用十分必要。

发明内容

本发明的第一个目的是针对现有的技术存在的上述问题，提供一种双银低辐射先镀膜后夹层玻璃，本发明所要解决的技术问题是如何提高膜层的耐氧化性能。

本发明的目的可通过下列技术方案来实现：一种双银低辐射先镀膜后夹层玻璃，其特征在于，本夹层玻璃包括外夹层、胶层、基片和镀膜层，所述夹层和基片之间通过胶层压合，所述镀膜层自所述基片向外依次复合有十三个膜层，其中第一层为SiNx层，第二层为ZnO层,第三层Ag层，第四层为NiCr层，第五层为AZO层,第六层为SiNx层,第七层为ZnSnO层,第八层为ZnO层，第九层为Ag层，第十层为AgO层，第十一层为NiCr层，第十二层为AZO层，第十三层为SiNx层，其中，第一层和第二层为第一电介质组合层，第三层为低辐射功能层，第四层为第一阻挡保护层，第五层为晶床介质层，第六层、第七层和第八层为第二电介质组合层，第九层为低辐射功能层,第十层为半氧化功能层，第十一层第二阻挡保护层，第十二层为掺氧晶床介质层，第十三层为第三电介质层。

在上述的一种双银低辐射先镀膜后夹层玻璃中，所述夹层为钢化玻璃层，所述胶片为PVB和或SGP材料，所述基片为玻璃片。

本发明的第二个发明目的，是为了解决上述玻璃的制备加工问题，通过如下技术方案实现：

一种双银低辐射先镀膜后夹层玻璃的加工方法，其特征在于，本加工方法包括如下步骤：

1)、磁控溅射镀膜层；

A、磁控溅射第一层：

靶材数量：交流旋转靶3～4个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10^-3mbar；镀膜厚度为：25～28nm；

B、磁控溅射第二层：