[发明专利]TFT阵列基板

说明书

本发明提供一种TFT阵列基板。该TFT阵列基板设置第三导电层通过第一过孔及第二过孔分别连接第一导电层及第二导电层，并在第三导电层上设置间隔的第一开口与第二开口，第一开口在竖直方向的投影位于第二过孔底部边缘的一侧且一端突出第二过孔底部边缘靠近第一过孔的一端，第二开口在竖直方向的投影位于第一过孔底部边缘的一侧且一端突出第一过孔底部边缘靠近第二过孔的一端，从而在第三导电层因静电击穿而在对应第一过孔与第二过孔互相靠近的边缘产生断裂时，第一开口及第二开口能够对断裂进行阻隔，防止断裂导致第一导电层与第二导电层断开，保证第一导电层与第二导电层连接的可靠性，提升产品的品质。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种TFT阵列基板。

背景技术

在显示技术领域，液晶显示装置(Liquid Crystal Display，LCD)、有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示器等平板显示装置已经逐步取代阴极射线管(Cathode Ray Tube，CRT)显示装置。液晶显示装置具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。

现有市场上的液晶显示装置大部分为背光型液晶显示装置，其包括液晶显示面板及背光模组(backlight module)。通常液晶显示面板由彩膜(Color Filter，CF)基板、薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)阵列基板、夹于彩膜基板与薄膜晶体管阵列基板之间的液晶(Liquid Crystal，LC)及密封胶框(Sealant)组成。液晶显示面板的工作原理是在两片平行的玻璃基板当中放置液晶分子，两片玻璃基板中间有许多垂直和水平的细小电线，通过通电与否来控制液晶分子改变方向，将背光模组的光线折射出来产生画面。

OLED通常包括：基板、设于基板上的阳极、设于阳极上的空穴注入层(Hole InjectLayer，HIL)、设于空穴注入层上的空穴传输层(Hole Transport Layer，HTL)、设于空穴传输层上的发光层、设于发光层上的电子传输层(Electron Transport Layer，ETL)、设于电子传输层上的电子注入层(Electron Inject Layer，EIL)及设于电子注入层上的阴极。OLED显示器件的发光原理为半导体材料和有机发光材料在电场驱动下，通过载流子注入和复合导致发光。

现有的显示面板的设计中，常有需要将两层互相绝缘的金属层进行连接的设计，例如采用触屏技术的显示面板中，一般将触控信号输入TFT阵列基板的一层金属层，并使该层金属层与其上方的另一层金属层连接，由该另一层金属层与感测端子连接，从而实现触控显示。请参阅图1及图2，现有的一种TFT阵列基板包括第一金属层910、设于第一金属层910上的第一绝缘层920、设于第一绝缘层920上的第二金属层930、设于第一绝缘层920及第二金属层930上的第二绝缘层940及设于第二绝缘层940上的氧化铟锡层950。所述第二绝缘层940上设有位于第二金属层930上方的两个第一过孔941及位于第一金属层910上方的两个第二过孔942，所述第一绝缘层920上设有位于第一金属层910上方的第三过孔921，每一第二过孔942对应位于一第三过孔921内，氧化铟锡层950穿过第一过孔941及第二过孔942分别与第二金属层930及第一金属层910连接，从而实现第一金属层910与第二金属层930之间的连接。当工艺制程产生以及外界进入的静电在氧化铟锡层950上积累，会产生静电击穿效应，使得氧化铟锡层950容易在第一过孔941的底部边缘及第二过孔942的底部边缘处断裂，该断裂会向过孔外部延伸，请参阅图3，当断裂不断延伸直至氧化铟锡层950的两侧边缘后，会导致氧化铟锡层950断裂为间隔的且分别与第一金属层910及第二金属层930连接的两个部分，此时第一金属层910与第二金属层930不再连接，影响显示面板的功能的实现，可靠性较低。

发明内容

本发明的目的在于提供一种TFT阵列基板，能够避免由于静电击穿导致的导电层断裂，可靠性高。