[发明专利]半导体器件在审

专利信息
申请号: 201810354502.2 申请日: 2018-04-19
公开(公告)号: CN108807289A 公开(公告)日: 2018-11-13
发明(设计)人: 小林达也 申请(专利权)人: 瑞萨电子株式会社
主分类号: H01L23/13 分类号: H01L23/13;H01L23/31;H01L23/49;H01L23/492
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 李兰;孙志湧
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 布线基板 半导体器件 焊区 安装表面 芯片装载 位置处 透视 布线设计 通孔结构 引出布线 不重叠 配置 外周 组焊
【说明书】:

本发明提供一种半导体器件,本发明的目的是提高配置半导体器件的布线基板的布线设计的自由度。在配置具有BGA封装结构的半导体器件的布线基板的安装表面的外周侧的在透视平面图中与布置在布线基板的芯片装载面上的多个引线不重叠的位置处布置具有NSMD结构和焊区通孔结构的焊区。另一方面,在比布线基板的安装表面上的一组焊区更靠内侧的在透视平面图中与布置在布线基板的芯片装载面上的引线重叠的位置处布置具有NSMD结构且与引出布线部相连的焊区部。

相关申请的交叉引用

将于2017年4月26日提交的、包括说明书、附图、以及摘要的日本专利申请No.2017-087300的公开内容通过引用整体并入本文。

技术领域

本发明涉及一种半导体器件技术,并且涉及一种用于应用例如包括凸块电极的半导体器件技术的有效技术。

背景技术

例如,日本未审专利申请公开No.2009-302227以及日本未审专利申请公开No.2010-93109描述了这样一种结构,即安装在布线基板上的半导体芯片的电极通过布置在布线基板的安装表面上的凸块电极而被引出到外部。

日本未审专利申请公开No.2009-302227公开了一种贯通布线基板的过孔与形成有凸块电极的焊区(land)直接相连的焊区过孔结构、焊区包含在形成于布线基板的安装表面之上的阻焊剂的开口部之中的NSMD(非焊料掩模限定)结构、以及其周边部分被形成于布线基板的安装表面之上的阻焊剂所覆盖的SMD(焊料掩模限定)结构。

此外,日本未审专利申请公开No.2010-93109公开了这样一种结构,即在布线基板的安装表面上提供了布置在布线基板的安装表面的外周侧的以多行循环的一组焊球以及布置在布线基板的安装表面的中心侧的以多行循环的一组焊球。

发明内容

顺便说一下,存在许多用于诸如BGA(球栅阵列)型或LGA(焊区栅格阵列)型这样的半导体器件的布线基板的焊区(用作外部端子的焊料材料所结合到的部分)的结构。

例如,在NSMD结构中(参见日本未审专利申请公开No.2009-302227的图10和11),焊区的周边部分不被绝缘膜(阻焊膜)所覆盖,并且焊区及与焊区相连的布线(引出布线)的一部分从形成于绝缘膜中的开口部露出。此外,例如,在SMD结构中(参见日本未审专利申请公开No.2009-302227的图12和13),焊区的周边部分及与焊区相连的布线被绝缘膜(阻焊膜)所覆盖。在NSMD结构和SMD结构中,在与焊区不重叠的位置处形成了布线基板的通孔。此外,例如,如日本未审专利申请公开No.2009-302227的图18和19所示,存在这样的焊区,即该焊区具有焊区的周边部分不被绝缘膜所覆盖的NSMD结构以及在与焊区重叠的位置处形成了布线基板的通孔(过孔)的所谓焊区通孔结构(焊区过孔结构),或者存在这样的焊区,即该焊区具有焊区的周边部分被绝缘膜所覆盖的SMD结构以及在与焊区重叠的位置处形成了布线基板的通孔的所谓焊区通孔结构。

在这里,在焊区过孔结构的情况下,因为在与焊区相同的层中不存在与焊区相连的布线,因此,接合到焊区的焊料材料不但可与焊区的上表面相接触,而且还可与和上表面相交的焊区的侧表面相接触。因而,在上述结构提议当中焊区过孔结构在抗热应力方面是最优的。然而,根据发明人的研究,发明人发现如果所有焊区都采用焊区过孔结构,则很难将用于使布置在布线基板的上表面(半导体芯片的加载表面)上的多个引线(接合引线或接合指)相连的多个布线布设到布置在布线基板的下表面(安装表面)上的多个焊区。

从对说明书和附图的描述中将显而易见地得知其它问题和新颖特征。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞萨电子株式会社,未经瑞萨电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810354502.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top