[发明专利]三内串式金属化薄膜在审
| 申请号： | 201810347354.1 | 申请日： | 2018-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN108538583A | 公开（公告）日： | 2018-09-14 |
| 发明（设计）人： | 钱锦绣 | 申请（专利权）人： | 钱立文 |
| 主分类号： | H01G4/33 | 分类号： | H01G4/33;H01G4/38 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 244000 安徽省*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 金属镀层带 金属化薄膜 条宽 空白隔离带 串式 基膜 等效串联电阻 缓冲电容器 质量稳定 分切机 蒸镀面 分切 蒸镀 中轴 自感 隔离 制造 | ||
【权利要求书】：
1.一种三内串式金属化薄膜，其特征在于包括基膜(1)、通过蒸镀技术在基膜(1)蒸镀面形成3条宽金属镀层带(5)，所述3条宽金属镀层带(5)间由4条空白隔离带(4)隔离；经分切机沿中间宽金属镀层带(5)中轴分切后形成第一金属化薄膜(2)、第二金属化薄膜(3)；所述第一金属化薄膜(2)包含2条空白隔离带(4)、1条宽金属镀层带(5)以及第一窄金属镀层带(22)，所述第二金属化薄膜(3)包含2条空白隔离带(4)、1条宽金属镀层带(5)以及第二窄金属镀层带(32)。
2.根据权利要求1所述的一种三内串式金属化薄膜，其特征在于所述的第一金属化薄膜(2)以及第二金属化薄膜(3)须配对使用。
3.根据权利要求1所述的一种三内串式金属化薄膜，其特征在于所述的第一窄金属镀层带(22)与第二窄金属镀层带(32)宽度相等。
4.根据权利要求1所述的一种三内串式金属化薄膜，其特征在于所述的空白隔离带(4)可取代传统的空白留边带。
5.根据权利要求1所述的一种三内串式金属化薄膜，其特征在于所述的空白隔离带(4)宽度为2mm左右。
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