[发明专利]一种高透过率的彩膜基板及液晶显示模组

权利要求书

1.一种高透过率的彩膜基板，其特征在于，包括衬底基板和设置在衬底基板上的若干像素点以及与所述像素点对应的BM区，所述衬底基板的上方还设有屏蔽膜，所述屏蔽膜形成在BM区。

2.如权利要求1所述的高透过率的彩膜基板，其特征在于，所述屏蔽膜包括透明导电的铟锡氧化物。

3.如权利要求2所述的高透过率的彩膜基板，其特征在于，所述BM区为盖住所述像素点的TR位置和电路走线的区域。

4.如权利要求3所述的高透过率的彩膜基板，其特征在于，所述电路走线包括Source走线、Gate走线和/或Vcom走线。

5.如权利要求3所述的高透过率的彩膜基板，其特征在于，所述屏蔽膜的厚度d与液晶显示模组的产品类别对应。

6.如权利要求5所述的高透过率的彩膜基板，其特征在于，所述屏蔽膜的厚度d的计算公式为d=ρ*L/（R*W），其中ρ为所述屏蔽膜材质的电阻率，W为所述屏蔽膜的宽度，L为所述屏蔽膜的长度，R 为所述液晶显示模组的产品的目标电阻值。

7.如权利要求6所述的高透过率的彩膜基板，所述液晶显示模组的产品包括IPS类产品，其对应所述R的取值范围为500-2KΩ。

8.如权利要求6所述的高透过率的彩膜基板，所述液晶显示模组的产品包括INcell类产品，其对应所述R的取值范围为10⁸-10¹⁰Ω。

9.一种液晶显示模组，其特征在于，包括如权利要求1-8任一项所述的高透过率的彩膜基板。