[发明专利]一种基板对位装置、基板及基板对位方法有效
申请号: | 201810337872.5 | 申请日: | 2018-04-16 |
公开(公告)号: | CN108519693B | 公开(公告)日: | 2021-10-29 |
发明(设计)人: | 赵新宇;范晓旺 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;G02F1/1333;H01L21/68 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;刘伟 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 对位 装置 方法 | ||
1.一种基板对位装置,用于将待对位基板进行对位校正,所述待对位基板的相对两侧设置有磁性件;其特征在于,所述基板对位装置包括相隔设置的两组对位部件,每一组对位部件上分别设有磁性结构,所述磁性结构能够与所述磁性件之间产生磁性作用力,以使待对位基板悬浮固定于两组所述对位部件之间。
2.根据权利要求1所述的基板对位装置,其特征在于,
所述磁性结构包括能够施加电信号时产生所述磁性作用力的电磁结构;
所述基板对位装置还包括与所述电磁结构连接的信号施加单元,用于向所述电磁结构施加电信号,以使两组所述对位部件分别与所述待对位基板产生的磁性作用力之间保持平衡。
3.根据权利要求2所述的基板对位装置,其特征在于,
所述电信号包括电流大小和/或电流方向,所述电磁结构包括电磁线圈,
所述电磁线圈所通入的电流方向改变时,所述电磁结构的磁极改变;
所述电磁线圈所通入的电流大小改变时,所述电磁线圈所产生的磁场强度改变,以改变所述对位部件与所述待对位基板之间所产生的磁性作用力。
4.根据权利要求2所述的基板对位装置,其特征在于,
每一组对位部件包括至少两个对位部件;其中,
所述信号施加单元与每一所述对位部件上的电磁结构单独连接,能够单独控制每一个所述对位部件上的电磁结构上所施加的电信号,以使每一个所述对位部件与所述待对位基板之间的磁性作用力单独可调;
或者,所述信号施加单元向同一组对位部件上施加相同的电信号,以使同一组对位部件与所述待对位基板之间的磁性作用力同步可调。
5.一种基板对位方法,其特征在于,采用如权利要求1至4任一项所述的基板对位装置对基板进行对位校正, 在所述基板的相对两侧分别设置有磁性部件;所述方法包括:
控制每一组对位部件的所述磁性结构与所述基板上的所述磁性件之间产生磁性作用力,以使所述基板悬浮固定于两组所述对位部件之间。
6.根据权利要求5所述的基板对位方法,其特征在于,应用于如权利要求2所述的基板对位装置,所述控制每一组对位部件的所述磁性结构与所述基板上的所述磁性件之间产生磁性作用力,以使所述基板悬浮固定于两组所述对位部件之间,具体包括:
向所述对位部件上的所述电磁结构上施加电信号,以使两组所述对位部件分别与所述待对位基板之间所产生的磁性作用力之间保持平衡。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,应用于如权利要求3所述的基板对位装置,所述向所述对位部件上的所述电磁结构上施加电信号,以使两组所述对位部件分别与所述待对位基板所产生的磁性作用力之间保持平衡,具体包括:
通过改变所述电磁线圈所通入的电流方向,改变所述电磁结构的磁极,以改变所述对位部件与所述待对位基板之间所产生的磁性作用力;
和/或,通过改变所述电磁线圈所通入的电流大小,改变所述电磁线圈所产生的磁场强度,以改变所述对位部件与待对位基板之间所产生的磁性作用力。
8.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,应用于如权利要求4所述的基板对位装置,所述向所述对位部件上的所述电磁结构上施加电信号,以使两组所述对位部件分别与所述待对位基板所产生的磁性作用力之间保持平衡,具体包括:
控制每一所述对位部件上的电磁结构上单独施加电信号;
或者,控制同一组对位部件上施加相同的电信号。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司,未经京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810337872.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种基于X射线穿透的LCD玻璃基板检测装置
- 下一篇:背光板加工用装置