[发明专利]电磁屏蔽膜及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201810326497.4 申请日: 2018-04-12
公开(公告)号: CN109247003A 公开(公告)日: 2019-01-18
发明(设计)人: 沈芾云;何明展;徐筱婷 申请(专利权)人: 庆鼎精密电子(淮安)有限公司;鹏鼎控股(深圳)股份有限公司
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00;C09J7/29;C09J9/02
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 刘永辉;李艳霞
地址: 223065 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 绝缘层 电磁屏蔽膜 金属层 导电胶层 制作 金属层表面 聚酰亚胺 涂覆
【权利要求书】:

1.一种电磁屏蔽膜,其特征在于,包括:

一绝缘层,所述绝缘层由聚酰亚胺制作而成;

形成于所述绝缘层一表面的金属层,所述金属层的化学成分为银;

涂覆于所述金属层表面的导电胶层。

2.如权利要求1所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,所述电磁屏蔽膜还包括金属加厚层,所述金属加厚层的化学成分为铜。

3.如权利要求1所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,所述导电胶层包括质量百分比在26%~26.6%之间的双酚A二缩水甘油醚、质量百分比在11.97%~12.23%之间的双酚S二缩水甘油醚、质量百分比在5.87%~6.13%之间的双酚F二缩水甘油醚、质量百分比在2.2%~2.8%之间的聚酰胺、质量百分比在27.4%~57.4%之间的银包铜粉以及0~16%的银片。

4.如权利要求1所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,所述电磁屏蔽膜的整体厚度范围为13~75微米,所述绝缘层的厚度范围为5~35微米,所述金属层的厚度范围为0.1~0.5微米,所述导电胶层的厚度范围为8~40微米。

5.如权利要求1所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,所述金属层通过电镀、化学镀或者静电吸附中的任何一种方式形成于所述绝缘层上。

6.一种权利要求1~5中任一项所述的电磁屏蔽膜的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:

在所述绝缘层表面进行化银处理,形成金属层,

在所述金属层表面涂导电胶,形成导电胶层。

7.如权利要求6所述的电磁屏蔽膜的制作方法,其特征在于,在形成所述金属层步骤之后,形成所述导电胶层之前,所述电磁屏蔽膜的制作方法包括以下步骤:在所述金属层表面进行化铜处理,形成金属加厚层。

8.如权利要求6所述的电磁屏蔽膜的制作方法,其特征在于,所述化银处理的反应剂为银纳米晶,催化剂主剂为纳米银。

9.如权利要求6所述的电磁屏蔽膜的制作方法,其特征在于,所述化银处理的反应剂为银离子,催化剂主剂为AgNO3、Ag(NH3)2NO3、AgClO4、AgOAc。

10.如权利要求6所述的电磁屏蔽膜的制作方法,其特征在于,所述导电胶层包括质量百分比在26%~26.6%之间的双酚A二缩水甘油醚、质量百分比在11.97%~12.23%之间的双酚S二缩水甘油醚、质量百分比在5.87%~6.13%之间的双酚F二缩水甘油醚、质量百分比在2.2%~2.8%之间的聚酰胺、质量百分比在27.4%~57.4%之间的银包铜粉以及0~16%的银片。

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