[发明专利]光学邻近效应修正模型及其建立方法和掩膜板的形成方法有效
| 申请号: | 201810315842.4 | 申请日: | 2018-04-10 |
| 公开(公告)号: | CN110361926B | 公开(公告)日: | 2022-11-18 |
| 发明(设计)人: | 沈泫 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 徐文欣;吴敏 |
| 地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学 邻近 效应 修正 模型 及其 建立 方法 掩膜板 形成 | ||
1.一种光学邻近效应修正模型的建立方法,其特征在于,包括:
提供若干参考图形;
对所述参考图形进行阈值获取处理,获取阈值信息和参考信息,所述阈值获取处理的方法包括:
以参考图形为掩膜进行第一模拟曝光处理,获取参考光强分布;
根据所述参考图形获取测试掩膜板;
以所述测试掩膜板为掩膜进行测试曝光处理,获取测试图形,所述测试图形具有测试尺寸;
通过测试图形和参考光强分布获取阈值信息,所述阈值信息用于在所述参考光强分布中获取第一矫正图形,所述第一矫正图形具有对应于所述测试尺寸的第一矫正尺寸,所述第一矫正尺寸与所述测试尺寸相等;
获取与所述参考图形对应的参考信息;
重复所述阈值获取处理至获取若干参考信息以及相应的阈值信息;
建立参考信息和阈值信息的对应关系模型。
2.如权利要求1所述的光学邻近效应修正模型的建立方法,其特征在于,所述阈值信息包括光强阈值,所述参考光强分布中光强大于和等于所述光强阈值的位置信息构成的图形为第一矫正图形;获取所述光强阈值的方法包括:根据所述测试图形在所述参考光强分布中获取光强阈值。
3.如权利要求1所述的光学邻近效应修正模型的建立方法,其特征在于,还包括:根据若干测试图形和若干参考光强获取初始光强阈值。
4.如权利要求3所述的光学邻近效应修正模型的建立方法,其特征在于,所述阈值信息包括所述初始光强阈值和阈值误差;
获取所述阈值误差的方法包括:通过所述测试图形在所述参考光强分布中获取测试光强阈值,所述参考光强分布中光强大于和等于所述测试光强阈值的位置信息构成的图形为所述第一矫正图形;根据所述测试光强阈值与初始光强阈值之差,获取阈值误差。
5.如权利要求3所述的光学邻近效应修正模型的建立方法,其特征在于,所述阈值信息包括光强阈值;
获取所述光强阈值的方法包括:通过所述测试图形在所述参考光强分布中获取测试光强阈值,所述参考光强分布中光强大于和等于所述测试光强阈值的位置信息构成的图形为所述第一矫正图形;根据所述测试光强阈值与初始光强阈值之差,获取阈值误差;通过所述阈值误差对所述初始光强阈值进行补偿,获取光强阈值。
6.如权利要求1所述的光学邻近效应修正模型的建立方法,其特征在于,所述参考信息包括参考光强分布信息和参考几何特征信息中的一种或两种组合;
获取所述参考光强分布信息的方法包括:获取参考光强分布信息处理和获取参考几何特征信息处理中的一种或两种组合;
获取所述参考光强分布信息处理的方法包括:根据所述参考光强分布获取参考光强分布信息;
获取所述参考几何特征信息处理的方法包括:根据所述参考图形获取参考几何特征信息。
7.如权利要求6所述的光学邻近效应修正模型的建立方法,其特征在于,所述参考光强分布信息包括:光强最大值、光强最小值、光强最小值的坐标、光强在拐点处的斜率和拐点坐标中的一种或多种组合。
8.如权利要求6所述的光学邻近效应修正模型的建立方法,其特征在于,当所述参考图形为多边形时,所述参考几何特征信息包括:所述参考图形各边边长、顶角角度和各顶角之间距离中的一种或多种组合;
当所述参考图形为不规则图形时,所述参考几何特征信息包括:所述参考图形沿各方向的尺寸中的一种或多种组合。
9.如权利要求1所述的光学邻近效应修正模型的建立方法,其特征在于,所述测试图形为多边形,所述测试尺寸包括所述测试图形各边的边长和测试图形的对角线长度中的一种或多种组合;所述第一矫正尺寸为对应于所述测试尺寸的方向上,所述第一矫正图形的尺寸。
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