[发明专利]日照遮蔽膜形成用涂布液及相关的粘合剂、日照遮蔽膜和基材

说明书

本发明提供一种日照遮蔽膜形成用涂布液，包括粘合剂和近红外线遮蔽剂，粘合剂包括式I所示的化合物。较佳地，式I所示的化合物采用含有缩水甘油氧基丙基的烷氧基硅烷、含有氨基丙基的烷氧基硅烷与四羟基二苯甲酮进行混合反应而成。烷氧基是甲氧基、乙氧基或丙氧基。近红外线遮蔽剂是平均粒径为100nm以下的近红外线遮蔽微粒子。选自含氧化锡微粒子、含氧化钨微粒子、含钌氧化物微粒子、含铱氧化物微粒子和含铑氧化物微粒子中的一种或多种。还提供了相关粘合剂、日照遮蔽膜和基材。本发明的日照遮蔽膜形成用涂布液不仅能够在常温下硬化成膜，而且获得的硬化膜日照遮蔽能力高以及表面硬度高，设计巧妙，制备简便，成本低，适于大规模推广应用。

技术领域

本发明涉及日照遮蔽技术领域，特别涉及日照遮蔽膜技术领域，具体是指一种日照遮蔽膜形成用涂布液及相关的粘合剂、日照遮蔽膜和基材。

背景技术

太阳光线大致可分为近红外线、可见光线及紫外线这三种，其中长波长区域的近红外线(热线)是作为热能被人体感觉到的波长区域的光，是导致室内、车内的温度上升的原因。另外，短波长区域的紫外线会对人体产生如下不良影响：晒黑、黄褐斑、雀斑、致癌、视力障碍等，还会导致物品的机械强度降低、褪色等外观劣化、食品变质、印刷物的色调降低等。为了遮蔽这些不需要的热线及有害的紫外线，现使用形成日照遮蔽膜而具有日照遮蔽功能的玻璃基板、塑料板、薄膜等透明基材。

以往使用应用了如金、银、铜、铝等大量具有传导电子的材料的日照遮蔽膜作为日照遮蔽材料。关于使用了这些材料的薄膜的形成，通常利用溅镀法或蒸镀法，但这些方法需要大规模的真空装置，因而生产性差，膜的制造成本变高，另外，难以形成大面积的膜。另一方面，还提出了通过使用含有日照遮蔽材料的涂布液在基材上形成日照遮蔽膜，而简单且低成本地制造具有日照遮蔽功能的透明基材。在此情况下，例如尝试了制造分散了比光的波长小1位数以上的微细微粒子的涂布液，但如果采用以往的金属材料，则会产生由微粒子化引起的氧化的问题，另外，在使用金(Au)的情况下，成本变高，所以不优选。此外，关于溶解混合有机系紫外线遮蔽剂后所获得的紫外线遮蔽功能，有紫外线吸收剂挥发而导致该紫外线遮蔽功能变差的问题。

氧化锡、氧化铟、氧化钌、氧化铱、氧化钨等是在紫外线区域吸收紫外线，且大量地保有自由电子的氧化物材料，据称通过将这些氧化物材料进行微粒子化，能够使之具有可见光的透过性，而能够用作日照遮蔽材料。但是，这些材料虽然具有遮蔽近红外线与紫外线的能力，但紫外线遮蔽能力相对小，如果设法使之具有充分的紫外线遮蔽能力，则甚至可见光透过率也会降低。此外，为了使建筑物的窗户或交通工具的窗户之类的目前使用的透明基材具有日照遮蔽功能，使用含有日照遮蔽材料的涂布液而形成日照遮蔽膜的方法简便而优选，但这样的方法需要涂布液能够在常温下硬化。而且，如果该涂布液能够在常温下硬化，则即便在工厂使用时，也不再需要使用特别的硬化装置，在成本方面也变得有利。

另外，在宾馆的窗户或汽车的窗户之类的用途中，会因擦拭或开闭而容易损伤表面，从而变得需要使硬化后的膜表面具有硬度。而且，在使用了有机系粘合剂的涂布液中也存在能够在常温下硬化的成分，但涂布、硬化后的膜强度弱，所以不实用，另一方面，如果是硅酸盐等无机系粘合剂，则硬化后的膜强度具有实用性，但由于在常温下不会硬化，所以需要加热使之硬化，生产性变差，成本变高，另外，在膜较厚的情况下，硬化时的收缩大而会产生龟裂。目前的现状是，如上所述具有能够在常温下硬化并且该硬化膜被赋予充分的表面强度这两种特性的日照遮蔽膜形成用涂布液并不存在，所以业界期待开发出这种日照遮蔽膜形成用涂布液。

发明内容

为了克服上述现有技术中的缺点，本发明的一个目的在于提供一种日照遮蔽膜形成用涂布液，其不仅能够在常温下硬化成膜，而且获得的硬化膜日照遮蔽能力高以及表面硬度高，适于大规模推广应用。

本发明的另一目的在于提供一种日照遮蔽膜形成用涂布液，其设计巧妙，制备简便，成本低，适于大规模推广应用。