[发明专利]日照遮蔽膜形成用涂布液及相关的粘合剂、日照遮蔽膜和基材

权利要求书

1.一种日照遮蔽膜形成用涂布液，包括粘合剂和近红外线遮蔽剂，其特征在于，所述粘合剂包括式I所示的化合物：

其中，n为0～3的整数；m为0～3的整数。

2.如权利要求1所述的日照遮蔽膜形成用涂布液，其特征在于，所述的式I所示的化合物采用含有缩水甘油氧基丙基的烷氧基硅烷、含有氨基丙基的烷氧基硅烷与四羟基二苯甲酮进行混合反应而成。

3.如权利要求2所述的日照遮蔽膜形成用涂布液，其特征在于，所述的含有缩水甘油氧基丙基的烷氧基硅烷或所述的含有氨基丙基的烷氧基硅烷中的烷氧基是甲氧基、乙氧基或丙氧基。

4.如权利要求1所述的日照遮蔽膜形成用涂布液，其特征在于，所述近红外线遮蔽剂是平均粒径为100nm以下的近红外线遮蔽微粒子。

5.如权利要求1所述的日照遮蔽膜形成用涂布液，其特征在于，所述近红外线遮蔽剂选自含氧化锡微粒子、含氧化钨微粒子、含钌氧化物微粒子、含铱氧化物微粒子和含铑氧化物微粒子中的一种或多种。

6.如权利要求1所述的日照遮蔽膜形成用涂布液，其特征在于，所述日照遮蔽膜形成用涂布液还包括稀释溶剂、硬化催化剂或紫外线遮蔽剂。

7.如权利要求6所述的日照遮蔽膜形成用涂布液，其特征在于，所述紫外线遮蔽剂是平均粒径为100nm以下的紫外线遮蔽微粒子。

8.一种用于日照遮蔽膜形成用涂布液的粘合剂，其特征在于，所述的用于日照遮蔽膜形成用涂布液的粘合剂为式I所示的化合物：

其中，n为0～3的整数；m为0～3的整数。

9.一种日照遮蔽膜，其特征在于，采用根据权利要求1至权利要求7中任一项所述的日照遮蔽膜形成用涂布液涂布并在常温下硬化而成。

10.一种具有日照遮蔽功能的基材，其特征在于，所述基材具有根据权利要求9所述的日照遮蔽膜。