[发明专利]掩膜板及其制备方法

说明书

本申请涉及一种掩膜板及其制备方法。其中掩膜板包括掩膜框架和固定设置在掩膜框架上的掩膜，掩膜上设置有具有多个用于显示的像素开孔的第一区域、以及围绕第一区域设置的具有多个第一辅助像素开孔的第二区域，而第二区域中第一辅助像素开孔的尺寸小于第一区域中的像素开孔的尺寸。本申请通过在掩膜上围绕第一区域设置第二区域，并使得第二区域中第一辅助像素开孔的尺寸小于第一区域中的像素开孔的尺寸，从而使得FMM从未刻蚀区到全刻蚀区之间的强度介于两者之间，进而使应力发生渐变，到AA区(包括第一区域和第二区域)之后逐渐的减缓，从而防止AA区发生折伤，以达到平衡FMM的强度和均匀性的目的。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，特别是涉及一种掩膜板及其制备方法。

背景技术

由于AMOLED具有驱动电压低、发光元件寿命长等优点，因此受到了青睐。又由于AMOLED(Active-matrix organic light emitting diode，中文全称是有源矩阵有机发光二极体或主动矩阵有机发光二极体，被称为下一代显示技术)通过蒸镀技术实现全彩时需要使用到FMM(fine metal mask，高精度金属掩模板)，来保证蒸镀有机材料的位置及尺寸。

然而，蒸镀技术中的腔室磁贴合、对位以及mask清洗、搬运、张网等等过程，对mask的强度又有较高要求，强度差可能导致使用过程中FMM容易损坏。而且基于FMM的结构特殊性，以及蒸镀位置精度的要求，需要FMM刻蚀掉较多的材料，尤其是在AA区(Active Area，有效显示区域)尺寸较大的FMM上，刻蚀量较多可能导致FMM在生产运营过程中产生折伤。

发明内容

基于此，有必要针对上述技术问题，提供一种能够兼顾FMM强度及均匀性的掩膜板及其制备方法。

一种掩膜板，包括：

掩膜框架；

固定设置在所述掩膜框架上的掩膜，所述掩膜上设置有具有多个用于显示的像素开孔的第一区域、以及围绕所述第一区域设置的具有多个第一辅助像素开孔的第二区域，所述第二区域中第一辅助像素开孔的尺寸小于所述第一区域中用于显示的像素开孔的尺寸。

在其中一个实施例中，所述第二区域中的第一辅助像素开孔围绕所述第一区域规则排列，所述围绕所述第一区域规则排列的第一辅助像素开孔的尺寸从靠近所述第一区域往外逐渐减小。

在其中一个实施例中，所述掩膜上还包括设置在所述第一区域和第二区域之间的第三区域，所述第三区域具有多个第二辅助像素开孔。

在其中一个实施例中，所述第三区域中第二辅助像素开孔的尺寸与所述第一区域中用于显示的像素开孔的尺寸相同或者所述第三区域中第二辅助像素开孔的尺寸从靠近所述第一区域往外逐渐减小。

在其中一个实施例中，所述第一区域中的像素开孔以及所述第三区域中的第二辅助像素开孔为贯穿孔，所述第二区域中的第一辅助像素开孔为贯穿孔或非贯穿孔。

在其中一个实施例中，所述掩膜的厚度从所述第一区域往外逐渐增大。

一种掩膜板的制备方法，包括：

提供一掩膜，在所述掩膜上刻蚀多个用于显示的像素开孔以形成第一区域；

围绕所述第一区域刻蚀多个第一辅助像素开孔以形成第二区域，所述第二区域中第一辅助像素开孔的尺寸小于所述第一区域中的像素开孔的尺寸；

将所述掩膜固定设置在掩膜框架上，以形成所述掩膜板。

在其中一个实施例中，所述第二区域中刻蚀的第一辅助像素开孔围绕所述第一区域规则排列，所述围绕所述第一区域规则排列的第一辅助像素开孔的尺寸从靠近所述第一区域往外逐渐减小。