[发明专利]掩膜板及其制备方法在审
| 申请号： | 201810277643.9 | 申请日： | 2018-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN108456846A | 公开（公告）日： | 2018-08-28 |
| 发明（设计）人： | 李伟丽 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H01L51/56 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 王乐 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 第一区域 开孔 第二区域 掩膜 辅助像素 掩膜板 像素 刻蚀 制备 固定设置 均匀性 渐变 申请 平衡 | ||
1.一种掩膜板，其特征在于，包括：
掩膜框架；
固定设置在所述掩膜框架上的掩膜，所述掩膜上设置有具有多个用于显示的像素开孔的第一区域、以及围绕所述第一区域设置的具有多个第一辅助像素开孔的第二区域，所述第二区域中第一辅助像素开孔的尺寸小于所述第一区域中用于显示的像素开孔的尺寸。
2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第二区域中的第一辅助像素开孔围绕所述第一区域规则排列，所述围绕所述第一区域规则排列的第一辅助像素开孔的尺寸从靠近所述第一区域往外逐渐减小。
3.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜上还包括设置在所述第一区域和第二区域之间的第三区域，所述第三区域具有多个第二辅助像素开孔。
4.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述第三区域中第二辅助像素开孔的尺寸与所述第一区域中用于显示的像素开孔的尺寸相同或者所述第三区域中第二辅助像素开孔的尺寸从靠近所述第一区域往外逐渐减小。
5.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述第一区域中的像素开孔以及所述第三区域中的第二辅助像素开孔为贯穿孔，所述第二区域中的第一辅助像素开孔采用贯穿孔或非贯穿孔。
6.根据权利要求1～5任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜的厚度从所述第一区域往外逐渐增大。
7.一种掩膜板的制备方法，其特征在于，包括：
提供一掩膜，在所述掩膜上刻蚀多个用于显示的像素开孔以形成第一区域；
围绕所述第一区域刻蚀多个第一辅助像素开孔以形成第二区域，所述第二区域中第一辅助像素开孔的尺寸小于所述第一区域中用于显示的像素开孔的尺寸；
将所述掩膜固定设置在掩膜框架上，以形成所述掩膜板。
8.根据权利要求7所述的掩膜板的制备方法，其特征在于，所述第二区域中刻蚀的第一辅助像素开孔围绕所述第一区域规则排列，所述围绕所述第一区域规则排列的第一辅助像素开孔的尺寸从靠近所述第一区域往外逐渐减小。
9.根据权利要求7所述的掩膜板的制备方法，其特征在于，所述掩膜上还包括设置在所述第一区域和第二区域之间的第三区域，所述第三区域刻蚀有多个第二辅助像素开孔。
10.根据权利要求7～9任一项所述的掩膜板的制备方法，其特征在于，还包括，对所述掩膜进行刻蚀，以使所述掩膜的厚度从所述第一区域往外逐渐增大。
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