[发明专利]中介层及电性元件并于基底板中的线路板制法在审

专利信息
申请号: 201810270033.6 申请日: 2018-03-29
公开(公告)号: CN110087393A 公开(公告)日: 2019-08-02
发明(设计)人: 林文强;王家忠 申请(专利权)人: 钰桥半导体股份有限公司
主分类号: H05K1/18 分类号: H05K1/18;H05K3/28
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 中国台湾台北*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 基底板 电性元件 中介层 介电层 线路板 开口 顶部线路层 侧向环绕 电性连接 路由电路 贯穿 沉积 顶侧 顶面 填入 制法 电路 覆盖
【权利要求书】:

1.一种设有中介层及电性元件的线路板制作方法,其包括下述步骤:

提供一基底板,其具有一顶侧、一底侧、一第一贯穿开口、一第二贯穿开口、及位于该顶侧的一顶部线路层,其中该第一贯穿开口及该第二贯穿开口各自具有自该顶侧延伸至该底侧的内侧壁;

将一中介层插入该基底板的该第一贯穿开口中,并将一电性元件插入该基底板的该第二贯穿开口中,其中该中介层包含一陶瓷块;

形成一介电层于该电性元件的一顶面上、该基底板的该顶侧上、该中介层的外围边缘与该第一贯穿开口的所述内侧壁间的间隙中、及该电性元件的外围边缘与该第二贯穿开口的所述内侧壁间的间隙中;以及

形成一路由电路于该介电层的一顶面上,且该路由电路电性连接至该电性元件,并通过金属化盲孔电性连接至该基底板。

2.如权利要求1所述的制作方法,其中,该中介层的厚度大于该基底板的厚度,且该中介层的一顶面与该介电层的该顶面呈共平面,而该路由电路还侧向延伸至该中介层的该顶面上。

3.如权利要求1所述的制作方法,还包括一步骤:形成一底部线路层于该基底板的该底侧处,且该底部线路层电性耦接至该路由电路。

4.如权利要求3所述的制作方法,其中,该底部线路层还侧向延伸至该电性元件的该底面上,且该电性元件通过该底部线路层,电性连接至该路由电路。

5.如权利要求3所述的制作方法,其中,该底部线路层还侧向延伸至该中介层的该底面上。

6.如权利要求1所述的制作方法,其中,该中介层还包含一内建电路,且该路由电路还电性连接至该中介层的该内建电路。

7.如权利要求6所述的制作方法,还包括一步骤:形成一顶部增层电路,其覆盖该路由电路及该中介层,该顶部增层电路包含交替轮流形成的至少一树脂层及至少一导线层,且该导线层电性耦接至该中介层的该内建电路及该路由电路。

8.如权利要求3所述的制作方法,还包括一步骤:形成一底部增层电路,其覆盖该底部线路层、该中介层及该电性元件,该底部增层电路包含交替轮流形成的至少一树脂层及至少一导线层,且该导线层电性耦接至该底部线路层。

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