[发明专利]一种辐射固化凹印油墨

权利要求书

1.一种辐射固化凹印油墨，包含下列组分：

(A)阳离子聚合性化合物，包含含羟基的氧杂环丁烷类化合物和脂环式环氧化合物；

(B)阳离子型光引发剂；

(C)颜料；

(D)填料。

2.根据权利要求1所述的辐射固化凹印油墨，其特征在于：所述含羟基的氧杂环丁烷类化合物选自至少一个封端基团是氧杂环丁烷基团且含羟基的取代或未被取代的烷烃和烯烃，氧杂环丁烷端基上的H可任选地被C₁-C₄的烷基所取代。

3.根据权利要求1或2所述的辐射固化凹印油墨，其特征在于：所述含羟基的氧杂环丁烷类化合物是具有至少一个封端基团的烷烃或烯烃，任选地，非封端基团中的-CH₂-可各自独立地被-O-、-COO-、-OCO-、-SO₂-、1,4-亚苯基或所取代，条件是两个O不直接相连。

4.根据权利要求1所述的辐射固化凹印油墨，其特征在于：所述脂环式环氧化合物是具有环氧环己基的环氧化合物。

5.根据权利要求1所述的辐射固化凹印油墨，其特征在于：含羟基的氧杂环丁烷类化合物和脂环式环氧化合物的质量比为2-5:1，优选2-4:1。

6.根据权利要求1所述的辐射固化凹印油墨，其特征在于：组分(A)阳离子聚合性化合物在辐射固化凹印油墨中的质量比为40-90％，优选45-80％。

7.根据权利要求1所述的辐射固化凹印油墨，其特征在于：组分(B)阳离子型光引发剂选自碘鎓盐、硫鎓盐、芳基茂铁盐中的一种或两种以上的组合。

8.根据权利要求1或7所述的辐射固化凹印油墨，其特征在于：组分(B)阳离子型光引发剂选自具有如下式(I)和/或(II)所示结构的化合物：

其中，R₁和R₂各自独立地代表氢、C₁-C₂₀的直链或支链烷基、C₄-C₂₀的环烷基烷基或烷基环烷基，且这些基团中的非环-CH₂-可任选地被-O-、-S-或1,4-亚苯基所取代；

R₃和R₄各自独立地代表氢、C₁-C₂₀的直链或支链烷基、C₄-C₂₀的环烷基烷基或烷基环烷基、C₆-C₂₀的取代或未取代的芳基，且这些基团中的非环-CH₂-可任选地被-O-、-S-或1,4-亚苯基所取代；

R₅代表C₆-C₂₀的取代或未取代芳基、C₆-C₂₀的取代或未取代的烷基芳基、C₁-C₂₀的直链或支链烷基、C₄-C₂₀的环烷基烷基或烷基环烷基、取代或未被取代的苯硫基苯基，且这些基团中的非环-CH₂-可任选地被羰基、-O-、-S-或1,4-亚苯基所取代；

R₆和R₇各自独立地代表烷基、羟基、烷氧基、烷基羰基、芳基羰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、芳硫基羰基、酰氧基、芳硫基、芳基、杂环烃基、芳氧基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、羟基(聚)亚烷基氧基、可取代的氨基、氰基、硝基、或卤原子，m₁、m₂分别表示R₆和R₇的个数，表示0-4的整数。

X^-各自独立地代表M^-、ClO₄^-、CN^-、HSO₄^-、NO₃^-、CF₃COO-、(BM₄)-、(SbM₆)^-、(AsM₆)^-、(PM₆)^-、Al[OC(CF₃)₃]₄^-、磺酸根离子、B(C₆M₅)₄^-或[(Rf)_bPF_6-b]^-，其中，M为卤素，Rf表示≥80％的氢原子被氟原子取代的烷基，b表示1～5的整数，且b个Rf基团相同或互不相同。