[发明专利]液体去除装置及液体去除方法有效
申请号: | 201810190176.6 | 申请日: | 2018-03-08 |
公开(公告)号: | CN108626970B | 公开(公告)日: | 2020-10-27 |
发明(设计)人: | 冈田直忠 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | F26B3/00 | 分类号: | F26B3/00;F26B23/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 刘英华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液体 去除 装置 方法 | ||
实施方式的液体去除装置,是能够对附着于部件的表面的液体照射激光而将所述液体去除的液体去除装置。所述液体去除装置具有:激光光源;以及能量控制构件,将从所述激光光源射出的激光分割为多个激光,在所述液体所附着的照射位置,将所分割出的所述多个激光的一部分重叠,从而能够使照射面中的能量强度不均匀。
技术领域
本发明的实施方式涉及液体去除装置及液体去除方法。
背景技术
提出了对附着于部件的表面的液体照射激光,使液体蒸发的技术。但是,为了使液体完全蒸发,需要照射具有较大的能量的激光。另外,照射于液体的激光的一部分到达部件的表面。因此,在对液体照射具有较大的能量的激光时,部件的表面可能由于到达部件的表面的激光而损伤。在此情况下,若对液体照射具有较小的能量的激光而使液体完全蒸发,则部件的表面产生的损伤能够减轻,但会产生液体的去除变得不充分或作业时间变长等新的问题。
另外,若使液体完全蒸发,则液体中包含的成分与部件或者周围的环境中包含的成分发生化学反应,也可能在部件的表面产生污浊或部件的表面腐蚀。
因此,期望开发出在去除液体时能够抑制对部件的表面产生的影响的技术。
发明内容
实施方式的液体去除装置,是能够对附着于部件的表面的液体照射激光而将所述液体去除的液体去除装置。所述液体去除装置具有:激光光源;以及能量控制构件,将从所述激光光源射出的激光分割为多个激光,在所述液体所附着的照射位置,将所分割出的所述多个激光的一部分重叠,从而能够使照射面中的能量强度不均匀。
附图说明
图1是用于例示本实施方式的液体去除装置及密封系统的示意图。
图2A、图2B是用于例示掩模、透镜阵列及聚光透镜的作用的示意图。
图3是用于例示透射部与透镜元件的位置关系的示意俯视图。
图4A~图4C是用于例示形成能量强度不同的多个区域的情况的示意图。
图5A及图5B是用于例示形成了能量强度不同的多个区域的情况下的效果的示意图。
图6是用于例示回收部的示意图。
图7是用于例示其他的实施方式的激光光源的示意图。
图8A~图8C是用于例示收纳有液体的部件的制造方法的示意图。
具体实施方式
实施方式的液体去除装置,是能够对附着于部件的表面的液体照射激光而将所述液体去除的液体去除装置。所述液体去除装置具有:激光光源;以及能量控制构件,将从所述激光光源射出的激光分割为多个激光,在所述液体所附着的照射位置,将所分割出的所述多个激光的一部分重叠,从而能够使照射面中的能量强度不均匀。
以下,参照附图,对实施方式进行例示。另外,各附图中,对同样的构成要素标注同一符号,详细的说明适当省略。
图1是用于例示本实施方式的液体去除装置1及密封系统100的示意图。
如图1所示,密封系统100中设置有液体去除装置1、密封装置11、壳体101及控制构件102。
壳体101呈箱状。壳体101能够设为,具有能够抑制来自外部的灰尘的侵入的程度的气密性。另外,壳体101并不必须需要,只要根据需要设置即可。
控制构件102控制液体去除装置1及密封装置11的动作。控制构件102例如能够设为,具备CPU(Central Processing Unit)、存储器等的计算机。液体去除装置1及密封装置11的动作,基于存储器中所保存的动作程序来控制。
液体去除装置1中设置有收纳部2、移动部3、激光光源4、光学系统5及回收部6。
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