[发明专利]轨迹生成方法及装置

权利要求书

1.一种轨迹生成方法，其特征在于，包括：

确定待生成轨迹的目标图形；

获取所述目标图形的多个轨迹点的轨迹调整系数；

根据所述轨迹调整系数，对所述目标图形的每个轨迹点进行轨迹平移，得到目标轨迹平移参数；

根据所述目标轨迹平移参数，确定与所述目标图形对应的生成轨迹。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述目标图形至少包括以下之一：圆形、正方形、长方形，所述轨迹调整系数包括下述至少之一：X轴坐标调整幅度值、Y轴坐标调整幅度值、Z轴坐标调整幅度值。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，在所述目标图形为圆形，所述轨迹调整系数为Y轴坐标调整幅度值时，根据所述轨迹调整系数，对所述目标图形的每个轨迹点进行轨迹平移，得到目标轨迹平移参数包括：

在所述Y轴坐标调整幅度值为负数的情况下，将所述圆形的每个轨迹点向外延伸；

在所述Y轴坐标调整幅度值为正数的情况下，将所述圆形的每个轨迹点向内缩小。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，在所述轨迹调整系数为Z轴坐标调整幅度值时，根据所述轨迹调整系数，对所述目标图形的每个轨迹点进行轨迹平移，得到目标轨迹平移参数包括：

在所述Z轴坐标调整幅度值为负数的情况下，将所述目标图形的竖向轨迹长度降低；

在所述Z轴坐标调整幅度值为正数的情况下，将目标图形的竖向轨迹长度升高。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在获取所述目标图形的多个轨迹点的轨迹调整系数之后，所述方法还包括：

获取所述目标图形的每个轨迹点的当前坐标系数；

根据每个轨迹点的当前坐标系数和每个轨迹点的轨迹调整系数，确定每个轨迹点的轨迹调整方向和轨迹调整角度。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在获取所述目标图形的多个轨迹点的轨迹调整系数之前，所述方法还包括：

获取轨迹调整类型，其中，所述轨迹调整类型至少包括：平移轨迹类型；

在所述轨迹调整类型为所述平移轨迹类型时，确定对所述目标图形的各个轨迹点进行坐标平移。

7.一种轨迹生成装置，其特征在于，包括：

第一确定单元，用于确定待生成轨迹的目标图形；

获取单元，用于获取所述目标图形的多个轨迹点的轨迹调整系数；

平移单元，用于根据所述轨迹调整系数，对所述目标图形的每个轨迹点进行轨迹平移，得到目标轨迹平移参数；

第二确定单元，用于根据所述目标轨迹平移参数，确定与所述目标图形对应的生成轨迹。

8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述目标图形至少包括以下之一：圆形、正方形、长方形，所述轨迹调整系数包括下述至少之一：X轴坐标调整幅度值、Y轴坐标调整幅度值、Z轴坐标调整幅度值。

9.一种存储介质，其特征在于，所述存储介质用于存储程序，其中，所述程序在被处理器执行时控制所述存储介质所在设备执行权利要求1至6中任意一项所述的轨迹生成方法。

10.一种处理器，其特征在于，所述处理器用于运行程序，其中，所述程序运行时执行权利要求1至6中任意一项所述的轨迹生成方法。