[发明专利]显示基板及其制造方法和显示面板

说明书

本发明提供一种显示基板，包括：透明基板，包括一侧面和一边缘；透明电极层，透明电极层形成于透明基板的侧面，且覆盖全部该侧面；以及配向层，配向层形成于透明电极层上，且配向层覆盖透明电极层的全部表面；配向层包括连接区和光敏区，光敏区包括光敏材料。本发明还提供一种显示基板的制造方法和显示面板。本发明的技术方案通过在配向层内设置光敏材料，使得在配向层覆盖透明电极层时，也能实现两个相对设置的显示基板的透明电极层的互相导通，一方面可以有效减少屏幕的黑色边框区域，另一方面也不需要控制配向层与透明基板边缘之间的距离，有效的简化了生产工艺。

技术领域

本发明涉及显示屏领域，尤其是一种显示基板及其制造方法和显示面板。

背景技术

现有显示屏通常包括两块平行设置的透明基板，面板上设有透明电极层和配向层，一般来说透明电极层为覆盖透明基板全部表面的ITO(Indium Tin Oxides，氧化铟锡)，而配向层为PI(Polyimide，聚酰亚胺)。现有的显示屏中，在配向层不会覆盖透明电极层的边缘位置，两块面板的透明电极层通过掺有金球的封框胶连接，使两块面板的透明电极层之间互相导通，以实现显示屏正常工作，而封框胶所在的位置则形成显示屏边缘的边框，也称为“黑边”。

随着人们对电子产品的使用，美观已经成为必不可少的需求之一，其中减少显示屏的“黑边”也成为越来越多消费者的需求。现有技术中通过降低封框胶的宽度来减少黑边，然而随着封框胶宽度的降低，其加工难度越来越大，成品率低。

发明内容

本发明的主要目的是提供一种显示基板及其制造方法和显示面板，旨在解决现有显示屏边框较大及生产难度大的问题。

为解决上述问题，本发明提供一种显示基板，包括：

透明基板，包括一侧面和一边缘；

透明电极层，所述透明电极层形成于所述透明基板的侧面，且覆盖全部该侧面；以及

配向层，所述配向层形成于所述透明电极层上，且所述配向层覆盖所述透明电极层的全部表面；

其中，所述配向层包括：

连接区，所述连接区为所述配向层由边缘向内延伸第一预设宽度的区域，所述连接区用于与封框胶相连；

光敏区，所述光敏区为所述配向层由边缘向内延伸第二预设宽度的区域，所述光敏区包括光敏材料，所述第一预设宽度小于或等于所述第二预设宽度。

所述配向层的厚度为50-150纳米。

所述配向层的厚度为80-120纳米。

所述显示基板还包括：

偏光层，所述偏光层设置于所述透明基板远离所述透明电极层的一侧，所述偏光片与所述透明基板相贴合；以及

滤光层，所述滤光层设置于所述透明基板与所述透明电极层之间。

本发明还提供一种显示基板的制造方法，包括步骤：

在透明基板上形成透明电极层；

在所述透明电极层上形成配向层，其中，所述配向层覆盖所述透明电极层的全部表面，所述配向层包括：

连接区，所述连接区为所述配向层由边缘向内延伸第一预设宽度的区域，所述连接区用于与封框胶相连；

所述配向层还包括：

光敏区，所述光敏区为所述配向层由边缘向内延伸第二预设宽度的区域，其中，所述光敏区包括光敏材料，所述第一预设宽度小于或等于所述第二预设宽度。

所述配向层的厚度为50-150纳米。

所述配向层的厚度为80-120纳米。