[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示面板在审

专利信息
申请号: 201810151454.7 申请日: 2018-02-14
公开(公告)号: CN108461505A 公开(公告)日: 2018-08-28
发明(设计)人: 杨虎伟;李小华;唐欢;张春义;李宏;哈图 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L23/552;H01L21/77
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 赵天月
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 遮光层 衬底 阵列基板 显示面板 信号线 黑矩阵 良品率 正投影 彩膜基板 覆盖信号 显示效果 遮挡信号 遮光效果 制造成本 交叠处 栅极线 偏移 源层 制作 替代 保证
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,其特征在于,包括:

衬底;

遮光层,所述遮光层设置在所述衬底的一侧;

信号线,所述信号线设置在所述遮光层远离所述衬底的一侧;

其中,所述遮光层在所述衬底上的正投影覆盖所述信号线在所述衬底上的正投影。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述信号线包括多条栅极线和多条数据线,且所述栅极线沿第一方向延伸且在第二方向上间隔设置,所述数据线沿所述第二方向延伸且在所述第一方向上间隔设置,并且,所述第一方向与所述第二方向相互交叉。

3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述遮光层包括:

第一部分,所述第一部分在所述衬底的正投影覆盖所述栅极线在所述衬底的正投影;

第二部分,所述第二部分在所述衬底的正投影覆盖所述数据线在所述衬底的正投影;

其中,所述第一部分和所述第二部分限定出多个呈阵列分布的开口。

4.一种显示面板,其特征在于,包括:权利要求1~3中任一项所述的阵列基板。

5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述阵列基板的遮光层复用为黑矩阵层。

6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述遮光层的第一宽度大于所述栅极线的宽度。

7.根据权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,所述遮光层的第二宽度大于所述数据线的宽度。

8.一种制作阵列基板的方法,其特征在于,包括:

在衬底的一侧形成遮光层;

在所述遮光层远离所述衬底的一侧形成信号线,且所述遮光层在所述衬底上的正投影覆盖所述信号线在所述衬底上的正投影。

9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述形成信号线的步骤进一步包括:

在所述遮光层远离所述衬底的一侧形成多条栅极线,且所述栅极线沿第一方向延伸且在第二方向上间隔设置;

在所述遮光层远离所述衬底的一侧形成多条数据线,且所述数据线沿第二方向延伸且在所述第一方向上间隔设置;

其中,所述第一方向与所述第二方向相互交叉。

10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,所述遮光层包括:

第一部分,所述第一部分在所述衬底的正投影覆盖所述栅极线在所述衬底的正投影;

第二部分,所述第二部分在所述衬底的正投影覆盖所述数据线在所述衬底的正投影;

其中,所述第一部分和所述第二部分限定出多个呈阵列分布的开口。

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