[发明专利]一种干扰源定位处理方法及装置有效

专利信息
申请号: 201810128871.X 申请日: 2018-02-08
公开(公告)号: CN110139359B 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 高袁山;王昆 申请(专利权)人: 上海大唐移动通信设备有限公司
主分类号: H04W64/00 分类号: H04W64/00
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王莹;李相雨
地址: 200233 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 干扰 定位 处理 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种干扰源定位处理方法,其特征在于,包括:

获取各样本点的第一位置信息,并根据预设坐标系对各第一位置信息进行转换,得到所述预设坐标系下对应的各第二位置信息;

对各第二位置信息进行聚类分析,得到各干扰源的干扰中心点;

将以各干扰中心点为圆心的预设搜索范围划分为若干个区域,根据每个区域内的样本点的价值计算各区域的价值,并选择价值最大的区域作为当前的干扰中心点的价值区域;所述样本点的价值为每个样本点受干扰的电平强度;

根据各干扰中心点的价值区域内的样本点和传播模型,计算得到各干扰源的位置信息;

所述将以各干扰中心点为圆心的预设搜索范围划分为若干个区域,根据每个区域内的样本点的价值计算各区域的价值,并选择价值最大的区域作为当前的干扰中心点的价值区域,具体包括:

根据预设夹角将以各干扰中心点为圆心的预设搜索范围划分为若干个区域,根据公式一计算各区域的价值,并选择价值最大的区域作为当前的干扰中心点的价值区域;

其中,Vaj表示第j个区域的价值,Numj表示第j个区域内的样本点数量,Pij表示第j个区域内第i个样本点受干扰的电平强度,U表示干扰中心点的坐标信息,Lij表示第j个区域内第i个样本点的坐标信息,(U-Lij),(U-Lij)表示干扰中心点与第j个区域内第i个样本点的距离;

所述传播模型的表达式如下:

Lp=K1+K2log d+K3(hm)+K4log hm+K5log(Heff)+K6log(Heff)log d

其中,Lp代表样本点的传输损耗,d代表样本点与干扰源的距离;hm代表样本点的高度;Heff代表干扰源的高度信息;K1,K2,K3,K4,K5,K6为传播系数。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对各第二位置信息进行聚类分析,得到各干扰源的干扰中心点,具体包括:

对各第二位置信息进行筛选,获取电平强度大于阈值的样本点的若干个第三位置信息;

对所述若干个第三位置信息进行聚类分析,根据增长率和截止条件确定各干扰源的干扰中心点。

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