[发明专利]一种用于OLED阵列制造的正性光刻胶

说明书

本发明属于光刻胶技术领域，涉及一种用于OLED阵列制造的正性光刻胶，20～25质量份的改性酚醛树脂、3～5质量份的光敏剂、80～100质量份的丙二醇甲醚醋酸酯、0.005～0.03质量份的溶剂和0.005～0.03质量份的流平剂；所述改性酚醛树脂是一种改性氟系酚醛树脂。本发明采用氟改性酚醛树脂为主体，由于产品含有氟，加强了产品的流平性能，涂布没有亮度不均和气泡，分辨率高，适用于目前6代OLED行业。

技术领域

本发明涉及光刻胶技术领域，特别涉及一种涂布和曝光性能优良的光刻胶去胶液。

背景技术

正性光刻胶是一种图形化转移工具，光刻胶是一种由树脂、感光化合物、添加剂、溶剂组成的组合物，它受紫外光曝光后，曝光区域和非曝光区域在碱性溶剂液中产生了明显的差异，显影液溶去可溶解的部分，得到所需图形。

OLED平板显示器产业所用的正性光刻胶，其主要被AZ公司产品占据，主要成分和作用是：(1)线性酚醛树脂为成膜树脂，通过涂布工艺在喷溅金属的玻璃基材表面形成树脂涂层，利用光刻工艺，在涂层上“印制”线路。(2)感光剂(photo-active compound，简称PAC)采用邻重氮萘(diazo-naphthoquinone，简称为DNQ)磺酸酯，利用PAC在感光和非感光部分不同的反应，得到所需的图形。(3)溶剂和添加剂，溶剂作用是得到均匀的稀释液体，以便涂布时有良好的流动性，形成表面均一平整的膜；添加剂含量很小，目地是改善附着性，增加感度，改善表面成膜性等。目前市场端客户使用的线宽都在2um左右，但随着市场竞争的加剧，产品性能的改善，OLED朝着大尺寸和高分辨率方向发展，那么对现有市场的光刻胶就提出了改善要求。

适用于高世代平板显示器产业的光刻胶，一般采用正性光刻胶，以得到良好的分辨率。OLED工厂所用的曝光光源，一般采用H-line/G-line/I-line的紫外混合光源，光源波长在300nm～450nm范围。为适应高世代平板显示器尺寸越来越大的趋势，多采用刮涂工艺(Slit coating)。

光刻胶	波长/nm	分辨率/um
混线	300～400	1.5
g线	436	0.6
i线	365	0.35