[发明专利]一种用于OLED阵列制造的正性光刻胶在审
| 申请号： | 201810121499.X | 申请日： | 2018-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN108363275A | 公开（公告）日： | 2018-08-03 |
| 发明（设计）人： | 向文胜;张兵;赵建龙;朱坤;万阳;陆兰 | 申请（专利权）人： | 江苏艾森半导体材料股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 汤东凤 |
| 地址： | 215000 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 质量份 改性酚醛树脂 正性光刻胶 酚醛树脂 丙二醇甲醚醋酸酯 光刻胶技术 亮度不均 流平性能 分辨率 氟改性 光敏剂 流平剂 溶剂 氟系 改性 制造 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于OLED阵列制造的正性光刻胶，其特征在于配方包括：20～25质量份的改性酚醛树脂、3～5质量份的光敏剂、80～100质量份的丙二醇甲醚醋酸酯、0.005～0.03质量份的溶剂和0.005～0.03质量份的流平剂；所述改性酚醛树脂是一种具有如下结构的改性氟系酚醛树脂，
R1、R2、R3、R4是独立的包含C1～C6直链或支链烷基、C1～C6甲氧基、C1～C6乙氧基、羧基、羟基、氧代、芳香基或硝基。
2.根据权利要求1所述的用于OLED阵列制作的正性光刻胶，其特征在于：所述光敏剂具有如下结构，
R1、R2、R3、R4、R5、R6是C1～C6直链或支链烷基、C1～C6甲氧基、C1～C6乙氧基、羧基、羟基、氧代、芳香基或硝基；A、B是甲氧基、乙氧基、氧原子、C1～C6直链或支链烷基。
3.根据权利要求1所述的用于OLED阵列制作的正性光刻胶，其特征在于：所述溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯。
4.根据权利要求1所述的用于OLED阵列制作的正性光刻胶，其特征在于：所述添加剂为二乙基氨甲基三乙氧基硅烷。
5.根据权利要求1所述的用于OLED阵列制作的正性光刻胶，其特征在于：所述流平剂为聚醚改性二甲基聚硅氧烷共聚物，其分子量在3000～15000。
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