[发明专利]一种投影系统及投影方法、存储介质在审
申请号: | 201810121204.9 | 申请日: | 2018-02-07 |
公开(公告)号: | CN108063930A | 公开(公告)日: | 2018-05-22 |
发明(设计)人: | 汪际军 | 申请(专利权)人: | 全普光电科技(上海)有限公司 |
主分类号: | H04N9/31 | 分类号: | H04N9/31 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 200000 上海市嘉*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 投影 系统 方法 存储 介质 | ||
1.一种投影系统,其特征在于,包括:一图像处理器、第一微投影模组和第二微投影模组和投影转接部件;
图像处理器,与第一微投影模组、第二微投影模组分别相连,图像处理器接收和处理原始图像数据,得到新图像数据,新图像数据的行数大于原始图像数据的行数;
第一微投影模组和第二微投影模组同时且分别读取新图像数据的一部分,并且投射出包含每个部分的微投影图像的微投影光束;
第一投影转接部件,与第一微投影模组相对设置,用于接收第一微投影模组发出的第一微投影光束,并对第一微投影光束进行相差预校正;
第二投影转接部件,与第二微投影模组相对设置,用于接收第二微投影模组发出的第二微投影光束,并对第二微投影光束进行相差预校正,从而使得经校正后的第一微投影光束和第二微投影光束拼接成目标投影图像。
2.根据权利要求1所述的投影系统,其特征在于,所述投影系统还具有反射部件,所述反射部件接收从第一投影转接部件、第二投影转接部件出来的经校正后的第一微投影光束、第二微投影光束,并将其反射扩大后投射拼接出最终的目标投影图像;其中,达到所述反射部件的所述经校正后的第一微投影光束、第二微投影光束拼接成完整的投影图像,再经反射部件放大后得到扩大后的最终的目标投影图像。
3.根据权利要求1所述的投影系统,其特征在于,所述投影系统还具有反射部件,所述反射部件接收从第一投影转接部件、第二投影转接部件出来的经校正后的第一微投影光束、第二微投影光束,并将其反射扩大后投射拼接出最终的目标投影图像。
4.根据权利要求2或3所述的投影系统,其特征在于,所述第一投影转接部件包括第一投影转接镜头和第一相差预校正元件;其中,所述第一投影转接镜头接收所述第一微投影光束后,所述第一相差预校正元件根据所述第一投影转接镜头的位置、所述反射部件的位置,计算所述第一微透镜光束从所述第一投影转接镜头出来并达到所述反射部件的第一路径;然后,第一相差预校正元件根据所得到的第一路径来调整经过所述第一投影转接镜头的第一微投影光束的光路,使得从所述第一投影转接镜头出来的第一微透镜光束达到所述反射部件;
所述第二投影转接部件包括第二投影转接镜头和第二相差预校正元件;其中,所述第二投影转接镜头接收所述第二微投影光束后,所述第二相差预校正元件根据所述第二投影转接镜头的位置、所述反射部件的位置,计算所述第二微透镜光束从所述第二投影转接镜头出来并达到所述反射部件的第一路径;然后,第二相差预校正元件根据所得到的第一路径来调整经过所述第二投影转接镜头的第二微投影光束的光路,使得从所述第一投影转接镜头出来的第一微透镜光束达到所述反射部件、从所述第二投影转接镜头出来的第二微透镜光束达到所述反射部件时形成拼接完整的投影图像,消除投影图像的拼缝和相差。
5.根据权利要求2或3所述的投影系统,其特征在于,所述第一投影转接部件包括第一投影转接镜头和第一相差预校正元件;其中,所述第一投影转接镜头接收所述第一微投影光束后,所述第一相差预校正元件根据所述第一投影转接镜头的位置、所述反射部件的位置,计算所述第一微透镜光束从所述第一投影转接镜头出来并达到所述反射部件的第一路径,并且实时计算从所述反射部件反射后达到不固定投影界面的第二路径;然后,第一相差预校正元件根据所得到的第二路径来调整所述第一路径,再根据所述第一路径来调整经过所述第一投影转接镜头的第一微投影光束的光路,;
所述第二投影转接部件包括第二投影转接镜头和第二相差预校正元件;其中,所述第二投影转接镜头接收所述第二微投影光束后,所述第二相差预校正元件根据所述第二投影转接镜头的位置、所述反射部件的位置,计算所述第二微透镜光束从所述第二投影转接镜头出来并达到所述反射部件的第一路径,并且实时计算从所述反射部件反射后达到不固定投影界面的第二路径;然后,第二相差预校正元件根据所得到的第二路径来调整所述第一路径,再根据所述第一路径来调整经过所述第二投影转接镜头的第二微投影光束的光路,使得从所述第一投影转接镜头出来的第一微透镜光束达到所述反射部件、从所述第二投影转接镜头出来的第二微透镜光束达到所述反射部件时形成拼接完整的投影图像,消除投影图像拼缝和相差。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于全普光电科技(上海)有限公司,未经全普光电科技(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810121204.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。