[发明专利]一种光刻方法及光刻机在审
| 申请号： | 201810099833.6 | 申请日： | 2018-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN108363273A | 公开（公告）日： | 2018-08-03 |
| 发明（设计）人： | 龙海凤;李天慧;藤井光一 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 吴敏 |
| 地址： | 223302 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻机 光阑 光叠加 光刻 光源 过滤 挡板 光刻图案 光刻图形 光学元件 投影透镜 透光区域 依次设置 均匀性 掩膜版 光路 叠加 保留 保证 | ||
1.一种光刻机，包括沿光路依次设置的光源、挡板、光阑、光学元件、掩膜版、投影透镜和基片；所述光阑包括透光区域；其特征在于，所述光阑用于过滤所述光源的光，使得0级光与1级光的叠加部分通过。
2.根据权利要求1所述的光刻机，其特征在于，所述光阑的透光区域与所述掩膜版的图案有关。
3.根据权利要求2所述的光刻机，其特征在于，所述光阑的透光区域与所述掩膜版的图案的线条间隔有关。
4.根据权利要求1所述的光刻机，其特征在于，所述叠加部分的形状为椭圆形。
5.根据权利要求4所述的光刻机，其特征在于，所述叠加部分的短轴的长度L满足如下公式：
L＝λ/P；
其中，λ为所述光源的光波长，P为所述掩膜版的图案的线条周期。
6.根据权利要求4所述的光刻机，其特征在于，所述叠加部分位于所述光刻机的投影透镜的搜集区域内。
7.根据权利要求4所述的光刻机，其特征在于，所述光刻机的照明方式为离轴照明或在轴照明。
8.根据权利要求1所述的光刻机，其特征在于，所述叠加部分的形状为圆形、扇形或环形。
9.一种光刻方法，其特征在于，包括：
发射光；
使用光阑过滤所述光，聚焦过滤后的光至掩膜版；
其中，所述光阑包括透光区域；其特征在于，所述光阑用于过滤所述光，使得0级光与1级光叠加的部分通过。
10.根据权利要求9所述的光刻方法，其特征在于，0级光与1级光的所述叠加部分满足公式：L＝λ/P；
其中L为所述叠加部分的短轴长度，λ为所述光的光波长，P为所述掩膜版的图案的线条周期。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于德淮半导体有限公司，未经德淮半导体有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810099833.6/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
