[发明专利]一种蒸镀装置及其蒸镀方法

说明书

本发明实施例提供一种蒸镀装置及其蒸镀方法，涉及蒸镀技术领域，用于消除掩膜版上的褶皱。其中，蒸镀装置包括可调节磁铁阵列和掩膜版，所述可调节磁铁阵列包括m个磁铁块，至少一个所述磁铁块的磁化方向可调节，以使所述可调节磁铁阵列对所述掩膜版产生的磁力在第一方向上具有分力F_x，用于消除所述掩膜版在第二方向上延伸的褶皱，使所述掩膜版表面平整；调节所述可调节磁铁阵列对所述掩膜版产生的磁力在第三方向上分力F_z的大小，用于抵消重力；m≥1，m为正整数。上述蒸镀装置用于膜层的制备。

技术领域

本发明涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种蒸镀装置及其蒸镀方法。

背景技术

蒸镀是将待成膜的物质置于真空中进行蒸发或升华，使之在工件或基板表面析出的过程。将蒸镀材料加热并镀到基板上称为真空蒸镀，或叫真空镀膜。真空镀膜工艺大量应用于设备(如显示面板)的制造过程中。

在显示面板的蒸镀制程中，掩膜版被用来对待蒸镀基板特定区域进行遮挡，以使蒸镀材料在未遮挡区域析出成膜。

真空蒸镀技术作为目前面板制备的一种主要工艺制程，如何改善掩膜版由张网技术造成的褶皱，提高蒸镀效果，是业内当前面临的主要技术难题。

发明内容

本发明提供一种蒸镀装置及其蒸镀方法，用于改善掩膜版由张网技术造成的褶皱，提高蒸镀效果。

第一方面，本发明提供一种蒸镀装置，蒸镀装置包括可调节磁铁阵列和掩膜版，

所述可调节磁铁阵列包括m个磁铁块，至少一个所述磁铁块的磁化方向可调节，

以使所述可调节磁铁阵列对所述掩膜版产生的磁力在第一方向上具有分力F_x，用于消除所述掩膜版在第二方向上延伸的褶皱，使所述掩膜版表面平整；

调节所述可调节磁铁阵列对所述掩膜版产生的磁力在第三方向上分力F_z的大小，用于抵消重力；m≥1，m为正整数。

第二方面，本发明提供一种蒸镀方法，蒸镀方法适用于上述本发明第一方面所涉及到的蒸镀装置；

蒸镀方法包括：

提供蒸镀基板和蒸发源；

调节至少一个所述磁铁块的磁化方向，使得所述可调节磁铁阵列对所述掩膜版产生的磁力在第一方向上具有分力F_x，用于消除所述掩膜版在第二方向上延伸的褶皱，使所述掩膜版表面平整；调节所述可调节磁铁阵列对所述掩膜版产生的磁力在第三方向上分力F_z的大小，用于抵消所述掩膜版的重力；

加热所述蒸发源，进行蒸镀。

如上所述的方面和任一可能的实现方式的有益效果如下：

本发明，通过调整可调节磁铁阵列中至少一个磁铁块的磁化方向，使得可调节磁铁阵列对掩膜版产生的磁力在与褶皱垂直的第一方向上产生分力F_x，从而达到消除褶皱的目的。并且，本实施例可根据褶皱的形态对可调节磁铁阵列中的个或多个磁铁块进行调节，从而使得第一方向上的分力F_x，能够消除褶皱。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例所提供的蒸镀原理示意图；

图2为本发明实施例所提供的蒸镀装置立体装配示意图；

图3为本发明实施例所提供的蒸镀装置的一种结构示意图；