[发明专利]一种蒸镀装置及其蒸镀方法

权利要求书

1.一种蒸镀装置，其特征在于，包括可调节磁铁阵列和掩膜版，

所述可调节磁铁阵列包括m个磁铁块，至少一个所述磁铁块的磁化方向可调节，

以使所述可调节磁铁阵列对所述掩膜版产生的磁力在第一方向上具有分力F_x，用于消除所述掩膜版在第二方向上延伸的褶皱，使所述掩膜版表面平整；

调节所述可调节磁铁阵列对所述掩膜版产生的磁力在第三方向上分力F_z的大小，用于抵消重力；m≥1，m为正整数。

2.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，

所述可调节磁铁阵列由m个磁铁块构成；

所述可调节磁铁阵列包括至少一个磁化单元；

所述磁化单元包括连续设置的N个所述磁铁块，所述磁化单元的磁化方向从角度α开始沿顺时针方向或逆时针方向连续旋进至角度β，

0°<|β-α|≤360°；

其中，所述磁化单元的长度为周期T，由如下公式得到：

T＝N(D+s)，

N≥1，D表示磁铁块的直径，s表示相邻两个磁铁块之间的间隙。

3.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，

所述可调节磁铁阵列与所述掩膜版在所述第三方向上的距离为z₀，通过调节所述周期T和所述距离z₀来调节所述可调节磁铁阵列对所述掩膜版产生的磁力在所述第三方向上的分力F_z和所述第一方向上的分力F_x的大小。

4.根据权利要求2所述蒸镀装置，其特征在于，

所述可调节磁铁阵列由所述至少一个磁化单元构成。

5.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，

|β-α|＝360°。

6.根据权利要求5所述的蒸镀装置，其特征在于，

第j至k个连续的所述磁铁块的磁化方向被调节，以使所述可调节磁铁阵列对所述掩膜版产生的磁力在第一方向上具有分力F_x；

其中，1≤j≤k≤m。

7.根据权利要求6所述的蒸镀装置，其特征在于，

所述第j至k个连续的所述磁铁块的磁化方向被调节，具体为：

第j至k个连续的所述磁铁块的磁化方向均被旋转一角度θ，

其中，0°<θ<360°。

8.根据权利要求5所述的蒸镀装置，其特征在于，

第i个所述磁铁块的磁化方向被调节，以使所述可调节磁铁阵列对所述掩膜版产生的磁力在第一方向上具有分力F_x；

其中，1≤i≤m。

9.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，

所述磁铁块的形状为圆柱体。

10.一种蒸镀方法，适用于上述权利要求1～9任一项所述的蒸镀装置，其特征在于，包括：

提供蒸镀基板和蒸发源；

调节至少一个所述磁铁块的磁化方向，使得所述可调节磁铁阵列对所述掩膜版产生的磁力在第一方向上具有分力F_x，用于消除所述掩膜版在第二方向上延伸的褶皱，使所述掩膜版表面平整；调节所述可调节磁铁阵列以调节所述掩膜版产生的磁力在第三方向上分力F_z的大小，用于抵消重力；

加热所述蒸发源，进行蒸镀。