[发明专利]基板液处理装置

说明书

本发明提供一种基板液处理装置。防止从内槽内的处理液的表面飞散的处理液的飞沫飞散到内槽的外侧的意料之外的区域。基板液处理装置具备盖体(71、72)，该盖体(71、72)能够在使内槽(34A)的上部开口封闭的封闭位置与使内槽的上部开口开放的开放位置之间移动。盖体具有：主体部(71A、72A)，其在该盖体位于封闭位置时覆盖内槽的上部开口；以及飞沫遮蔽部(71B、72B、71D、72D)，其连接到主体部。在盖体位于封闭位置时，飞沫遮蔽部从比与该飞沫遮蔽部相邻的内槽的侧壁的上端高的高度位置延伸至比该侧壁靠外槽那一侧且比该侧壁的上端低的位置。

技术领域

本发明涉及使用处理液来对基板进行液处理的基板液处理装置。

背景技术

在半导体装置的制造工序中包括氮化硅膜蚀刻工序，在该氮化硅膜蚀刻工序中，半导体晶圆等基板浸渍于贮存在处理槽的磷酸水溶液中，对在基板的表面形成的氮化硅膜进行湿蚀刻。

这样的湿蚀刻所使用的液处理装置具有：内槽，其贮存处理液(磷酸水溶液)；外槽，其接受从内槽溢流出来的处理液；以及循环管线和循环泵，其以使从外槽排出来的处理液返回内槽的方式使该处理液循环。

处于内槽内的磷酸水溶液被维持在沸腾状态。因此，由于沸腾而产生的气泡每次到达液面，都产生磷酸水溶液的飞沫，向内槽的周围飞散。若该飞沫向外槽的外侧飞散，则处理槽的周围的环境有可能被污染。

在专利文献1中记载有如下内容：为了防止磷酸水溶液的飞沫向处理槽的周围飞散，设置有仅在基板的输入和输出时打开的自动罩。然而，利用该自动罩无法充分地防止磷酸水溶液的飞沫向处理槽的周围飞散。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平9-181041号公报

发明内容

发明要解决的问题

本发明的目的在于提供一种具有能够防止从内槽内的处理液的表面飞散的处理液的飞沫飞散到内槽的外侧的意料之外的区域的结构的基板液处理装置。

用于解决问题的方案

根据本发明的一实施方式，提供一种基板液处理装置，该基板液处理装置具备：内槽，其能够贮存处理液，该内槽具有上部开口；外槽，其设置于所述内槽的外侧；以及盖体，其能够在封闭所述内槽的上部开口的封闭位置与使所述内槽的上部开口开放的开放位置之间移动，所述盖体具有：主体部，其在所述盖体位于封闭位置时覆盖所述内槽的上部开口；以及飞沫遮蔽部，其连接到所述主体部，在所述盖体位于封闭位置时，所述飞沫遮蔽部从比与该飞沫遮蔽部相邻的所述内槽的侧壁的上端高的高度位置延伸至比该侧壁靠所述外槽那一侧且比该侧壁的上端低的位置。

发明的效果

根据上述本发明的实施方式，能够防止从内槽内的处理液的表面飞散的处理液的飞沫飞散到内槽的外侧的意料之外的区域。

附图说明

图1是表示基板液处理系统的整体结构的概略俯视图。

图2是表示装入到基板液处理系统的蚀刻装置的结构的系统图。

图3是处理槽的概略横断方向纵剖视图，是表示盖体位于封闭位置的状态的图。

图4是处理槽的概略横断方向纵剖视图，是表示盖体位于开放位置的状态的图。

图5是处理槽的概略长度方向纵剖视图。

图6是处理槽的概略俯视图。