[发明专利]基板液处理装置

权利要求书

1.一种基板液处理装置，其具备：

内槽，其能够贮存处理液，该内槽具有上部开口；

外槽，其设置于所述内槽的外侧；以及

盖体，其能够在封闭所述内槽的上部开口的封闭位置与使所述内槽的上部开口开放的开放位置之间移动，

所述盖体具有：

主体部，其在所述盖体位于封闭位置时覆盖所述内槽的上部开口；以及

飞沫遮蔽部，其连接到所述主体部，

在所述盖体位于封闭位置时，所述飞沫遮蔽部从比与该飞沫遮蔽部相邻的所述内槽的侧壁的上端高的高度位置延伸至比该侧壁靠所述外槽那一侧且比该侧壁的上端低的位置，

其中，所述盖体具有：第1盖体部分，其覆盖所述内槽的所述上部开口的第1部分；以及第2盖体部分，其覆盖所述内槽的所述上部开口的第2部分，所述第1盖体部分和所述第2盖体部分能够以沿着水平方向延伸的各自的回转轴线为中心进行回转，随着其回转，所述第1盖体部分和所述第2盖体部分在封闭位置与开放位置之间移动，所述第1盖体部分和所述第2盖体部分各自具有所述主体部和所述飞沫遮蔽部，

其中，所述盖体还具有引导部，所述引导部将在所述第1盖体部分位于封闭位置时附着到所述主体部的上表面的液体在所述第1盖体部分位于开放位置时向所述外槽的外侧引导。

2.根据权利要求1所述的基板液处理装置，其中，

所述外槽接受从所述内槽溢流的处理液。

3.根据权利要求2所述的基板液处理装置，其中，

在所述盖体位于封闭位置时，所述飞沫遮蔽部的下端位于所述内槽的外侧且所述外槽的内侧的水平方向位置。

4.根据权利要求1所述的基板液处理装置，其中，

在所述第1盖体部分和所述第2盖体部分位于所述封闭位置时，所述第1盖体部分的所述主体部的整体和所述第2盖体部分的所述主体部的整体位于与从所述内槽向所述外槽溢流时的所述内槽内的所述处理液的液面实质上相同的高度。

5.根据权利要求1所述的基板液处理装置，其中，

在所述第1盖体部分和所述第2盖体部分位于所述封闭位置时，所述第1盖体部分的所述主体部和所述第2盖体部分的所述主体部倾斜，所述第1盖体部分的所述主体部的基端部分和所述第2盖体部分的所述主体部的基端部分位于比从所述内槽向所述外槽溢流时的所述处理液的所述内槽内的所述处理液的液面高的位置，所述第1盖体部分的所述主体部的前端部分和所述第2盖体部分的所述主体部的前端部分位于比所述液面低的位置。

6.根据权利要求5所述的基板液处理装置，其中，

在所述第1盖体部分和所述第2盖体部分位于所述封闭位置时，在俯视时，所述第1盖体部分的所述主体部的所述前端部分与所述第2盖体部分的所述主体部的所述前端部分重叠。

7.根据权利要求6所述的基板液处理装置，其中，

在所述第1盖体部分和所述第2盖体部分位于所述封闭位置时，所述第1盖体部分的所述主体部的所述前端部分和所述第2盖体部分的所述主体部的所述前端部分分离。

8.根据权利要求5所述的基板液处理装置，其中，

在所述第1盖体部分的上方和所述第2盖体部分的上方还具有第1辅助盖体和第2辅助盖体。

9.根据权利要求1所述的基板液处理装置，其中，

所述第1盖体部分的所述飞沫遮蔽部和所述第2盖体部分的所述飞沫遮蔽部各自具有：第1边部，其沿所述回转轴线的方向延伸；第2边部，其沿与所述回转轴线正交的方向延伸；以及斜边部，其相对于所述第1边部和所述第2边部形成角度地延伸且连接所述第1边部的端部和所述第2边部的端部。

10.根据权利要求9所述的基板液处理装置，其中，

所述第1盖体部分和所述第2盖体部分的下表面分别以随着靠近所述第1边部而变低的方式倾斜，且以随着靠近所述第2边部而变低的方式倾斜。

11.根据权利要求1所述的基板液处理装置，其中，

所述基板液处理装置还具有：基板支承构件，其在所述内槽内从下方支承多张基板；以及基板按压部，其设置于所述第1盖体部分和所述第2盖体部分中的至少任一者，

所述基板按压部在所述第1盖体部分和所述第2盖体部分位于封闭位置时，与利用所述基板支承构件支承的基板卡合，防止或抑制所述基板的向至少上方的位移。