[发明专利]半导体封装装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201810066753.0 申请日: 2018-01-24
公开(公告)号: CN109390293B 公开(公告)日: 2023-01-24
发明(设计)人: 黄礼智 申请(专利权)人: 日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31;H01L21/56
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 蕭輔寬
地址: 中国台湾高雄市楠梓*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 封装 装置 及其 制造 方法
【说明书】:

一种半导体封装装置包括衬底、电组件及封装主体。所述电组件设置在所述衬底上。所述电组件具有面朝所述衬底的有源表面及与所述有源表面相反的背表面。所述背表面具有第一部分及围绕所述第一部分的第二部分。所述电组件的所述背表面的所述第一部分包括多个柱。所述封装主体设置在所述衬底上。所述封装主体包封所述电组件并且暴露所述电组件的所述背表面。

技术领域

发明大体上涉及一种半导体封装装置及其制造方法。更具体地说,本发明涉及一种包括散热结构的半导体封装装置及其制造方法。

背景技术

随着电子集成电路的电能消耗增加,将半导体装置的操作温度保持在可接受范围内是很有挑战性的。一般来说,将散热片或散热器接合到芯片或裸片的背侧进行散热。然而,使用散热片或散热器会增加裸片或芯片的制造成本及厚度。

发明内容

在一或多个实施例中,一种半导体封装装置包括衬底、电组件及封装主体。电组件设置在衬底上。电组件具有面朝衬底的有源表面及与所述有源表面相反的背表面。背表面具有第一部分及围绕所述第一部分的第二部分。电组件的背表面的第一部分包括多个柱。封装主体设置在衬底上。封装主体包封电组件并且暴露电组件的背表面。

在一或多个实施例中,一种半导体封装装置包括衬底、电组件及封装主体。电组件设置在衬底上。电组件具有面朝衬底的有源表面及与所述有源表面相反的背表面。背表面具有第一部分及围绕所述第一部分的第二部分。电组件的背表面的第一部分界定多个孔。封装主体设置在衬底上。封装主体包封电组件并且暴露电组件的背表面。

在一或多个实施例中,一种半导体封装装置包括衬底、电组件及封装主体。电组件设置在衬底上。电组件具有面朝衬底的有源表面、与所述有源表面相反的背表面以及在所述有源表面与所述背表面之间延伸的侧表面。电组件的侧表面界定多个孔。封装主体设置在衬底上。封装主体包封电组件并且暴露电组件的背表面及电组件的侧表面的多个孔。

附图说明

当结合附图阅读时,从以下详细描述能最佳地理解本发明的各方面。应注意,各种特征可不按比例绘制,且各种特征的尺寸可出于论述的清晰起见任意地增大或减小。

图1A示出根据本发明的一些实施例的半导体封装装置的横截面视图;

图1B示出根据本发明的一些实施例的图1A所示的半导体封装装置的一部分的放大视图;

图1C示出根据本发明的一些实施例的图1A所示的半导体封装装置的一部分的放大视图;

图1D示出根据本发明的一些实施例的图1A所示的半导体封装装置的一部分的放大视图;

图1E示出根据本发明的一些实施例的图1A所示的半导体封装装置的一部分的放大视图;

图2A示出根据本发明的一些实施例制造半导体封装装置的方法的一或多个阶段;

图2B示出根据本发明的一些实施例制造半导体封装装置的方法的一或多个阶段;

图2C示出根据本发明的一些实施例制造半导体封装装置的方法的一或多个阶段;

图2C'示出根据本发明的一些实施例制造半导体封装装置的方法的一或多个阶段;

图2D示出根据本发明的一些实施例制造半导体封装装置的方法的一或多个阶段;

图2D'示出根据本发明的一些实施例制造半导体封装装置的方法的一或多个阶段;

图3A示出根据本发明的一些实施例制造半导体封装装置的方法的一或多个阶段;

图3B示出根据本发明的一些实施例制造半导体封装装置的方法的一或多个阶段;

图3C示出根据本发明的一些实施例制造半导体封装装置的方法的一或多个阶段;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日月光半导体制造股份有限公司,未经日月光半导体制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810066753.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top