[发明专利]非对称放大检查系统和照射模块

说明书

一种照射模块，包括一对变形棱镜，所述一对变形棱镜包括第一变形棱镜和第二变形棱镜；其中所述一对变形棱镜被构造为(a)接收沿着第一光轴传播的第一辐射束，和(b)非对称地放大所述第一辐射束以提供沿着平行于所述第一光轴的第二光轴传播的第二辐射束；以及直角棱镜，所述直角棱镜被构造为接收所述第二辐射束并且执行所述第二辐射束的侧向移位以提供第三辐射束；以及旋转机构，所述旋转机构被构造为通过旋转所述第一变形棱镜和所述第二变形棱镜中的至少一个来改变所述一对变形棱镜的非对称放大倍率。

相关申请的交叉引用

本申请要求享有于2017年1月23日提交的名称为“ASYMMETRICAL MAGNIFICATIONINSPECTION SYSTEM AND ILLUMINATION MODULE(非对称放大检查系统和照射模块)”的第15/412,879号美国非临时申请的权益，其全部内容通过引用方式并入本文中。

背景技术

越来越需要提供用于检查物体(诸如半导体晶片)的紧凑和可调节的检查系统和照射模块。

发明内容

本发明内容仅示出了方法和/或系统和/或模块的各种示例。不应使用这些示例来限制权利要求的保护范围。

附图说明

为了更好地理解本发明并且表示如何实施本发明，现在将单纯以示例的方式参考所附附图，所附附图中相同的附图标记始终表示对应的元件或部分。

现在将详细地参考所附附图，需要强调的是，示出的细节仅作为示例，并且仅用于对本发明的优选实施方式进行说明性论述的目的，并且是为了提供被相信是针对本发明的原理和概念方面的最有用和容易理解的描述而存在的。在这点上，并不试图比基本理解本发明所需的内容更详细地表示本发明的结构细节，结合附图的描述使得本领域技术人员明白如何在实践中可以体现本发明的各种形式。在所附附图中：

图1示出了收集和照射数值孔径的示例；

图2示出了收集和照射数值孔径的示例；

图3示出楔形物、输入辐射束和输出辐射束的示例；

图4示出了照射模块的一部分的示例；

图5示出了照射模块的一部分的示例；

图6示出了检查系统的示例；

图7示出了检查系统的示例；和

图8示出了方法的示例。

具体实施方式

通常希望在双暗场工具中尽可能提高吞吐量，但仍保持灵敏度。这样做的一种方法是使用一个椭圆形的照射孔径，斑点现在也将是椭圆形的，但由于斑点大小而导致的灵敏度损失将通过收集区域的增加而被部分补偿。

椭圆形斑点可以通过在X方向或Y方向收缩照射孔径而获得。

在检查系统中(诸如加利福尼亚州圣克拉拉市的应用材料公司的Uvision工具)，X方向通过声光(acusto-optics)器件而被扫描，并因此具有固定的数据速率，Y方向通过移动机动平台而被扫描。

在这种情况下，吞吐量可以通过在Y方向上收缩孔径来增加，并且增加平台速度。

吞吐量可以以如图1和图2所示的两种方式增加。在图1中，入射辐射束43和阻挡区域48处于相同的Y坐标(它们是“并排的”)。收集束44在阻挡区域48的外部被收集。

在图2中，入射辐射束45和阻挡区域49处于相同的X坐标(它们是“一个在另一个之上”)。收集束46在阻挡区域49的外部被收集。

图2的构造可能更好，因为图2的构造允许更大的离轴(off-axis)照射角度，这增加了颗粒检测的灵敏度。