[发明专利]彩色滤光基板及其制作方法

说明书

本发明提供一种彩色滤光基板及其制作方法。本发明的彩色滤光基板的制作方法包括：步骤1、提供基底，在所述基底上形成抗反射层；步骤2、在所述抗反射层上形成彩色光阻层，所述彩色光阻层通过光刻制程制得，所述光刻制程包括涂布光阻、曝光及显影制程。通过在彩色光阻层下方设置抗反射层，在彩色光阻层的光刻制程中，由于光阻的下方设有抗反射层，因此在对光阻进行曝光的过程中，所述抗反射层能够有效吸收入射到所述抗反射层中的紫外光，并且通过相消干涉减弱从所述光阻与抗反射层的接触界面出射的反射光，进而消除光刻技术中的驻波效应、摇摆效应与凹缺效应，提高色阻单元的关键尺寸均一性和图案分辨率。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩色滤光基板及其制作方法。

背景技术

随着显示技术的发展，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄、无辐射等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。

现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括壳体、设于壳体内的液晶显示面板及设于壳体内的背光模组(Backlight module)。传统的液晶显示面板是由一片薄膜晶体管阵列基板(Thin Film Transistor Array Substrate，TFT ArraySubstrate)与一片彩色滤光片基板(Color Filter Substrate，CF Substrate)贴合而成，分别在TFT基板和CF基板上形成像素电极和公共电极，并在TFT基板与CF基板之间灌入液晶，其工作原理是通过在像素电极与公共电极之间施加驱动电压，利用像素电极与公共电极之间形成的电场来控制液晶层内的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。所述CF基板中设有彩色光阻层，通过彩色光阻层对背光进行过滤，实现红绿蓝三原色显示。

目前业界还有一种COA(Color Filter on Array)技术，其将彩色光阻层制备于薄膜晶体管阵列基板上，可以避免彩色滤光片(CF)基板与阵列(Array)基板的对位问题，降低显示面板制备过程中对盒制程的难度，避免了对盒时的误差，提高了像素的开口率。

近年来，随着光电技术的蓬勃发展，光刻技术朝着更高分辨率的方向迈进，要求彩色光阻层中的红、绿、蓝色色阻单元的线宽越来越小。然而，在彩色光阻层的光刻制程中，由于入射光在光阻与基底的接触界面处容易进行反射，导致光阻进行曝光时容易出现驻波效应、摇摆效应与凹缺效应，使色阻单元的侧壁出现凹凸不平的情况，从而影响色阻单元的成型效果，这一问题在现在盛行的COA、POA(PS On Array)显示器中表现尤为显著，因此，如何改善光刻制程中色阻单元的成型状况成为业界急需解决的技术问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种彩色滤光基板的制作方法，通过在彩色光阻层下方设置抗反射层，能够消除光刻技术中的驻波效应、摇摆效应与凹缺效应，提高色阻单元的关键尺寸均一性和图案分辨率。

本发明的目的还在于提供一种彩色滤光基板，通过在彩色光阻层下方设置抗反射层，能够提高彩色光阻层中的色阻单元的关键尺寸均一性和图案分辨率，进而提升含有该彩色滤光基板的液晶显示器的分辨率与显示效果。

为实现上述目的，本发明提供一种彩色滤光基板的制作方法，包括如下步骤：

步骤1、提供基底，在所述基底上形成抗反射层；

步骤2、在所述抗反射层上形成彩色光阻层，所述彩色光阻层通过光刻制程制得，所述光刻制程包括涂布光阻、曝光及显影制程。

所述抗反射层的材料包括接枝吸光基团的聚合物，所述吸光基团的吸光波段为200～400nm；所述抗反射层通过涂布的方式形成；所述抗反射层的厚度为1～5μm。

所述吸光基团包括萘与蒽中的一种或多种，所述聚合物包括甲酚醛环氧树脂与聚乙烯基醚中的一种或多种。