[发明专利]半导体器件闪烁噪声表征数据筛选方法在审

专利信息
申请号: 201810058401.0 申请日: 2018-01-22
公开(公告)号: CN108304630A 公开(公告)日: 2018-07-20
发明(设计)人: 王伟;吕少力 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50;G06F17/30
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 焦天雷
地址: 201203 上海市浦东新区*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 噪声频谱 频点 半导体器件 表征数据 半导体样本 测试 闪烁 拟合 噪声 筛选 实际工作状态 噪声频谱数据 实验数据 算法处理 物理特性 噪声模型 噪声数据 重合 采集
【说明书】:

发明公开了一种半导体器件闪烁噪声表征数据筛选方法,包括选取多个半导体样本,设置多个测试频点,获取每个半导体样本在每个测试频点的噪声频谱,将多个半导体样本在同一个测试频点的噪声频谱按采集算法处理获得该测试频点的噪声频谱表征数据,将所有测试频点的噪声频谱表征数据作为这种半导体器件闪烁噪声模型拟合的实验数据。利用本发明处理的噪声数据能更真实反映实验中的情况,避免不同偏压下的噪声频谱曲线发生重合、交叉等非正常现象,使SPICE模型能够更准确的与噪声频谱数据进行拟合,能更符合半导体器件实际工作状态下的物理特性。

技术领域

本发明涉及半导体领域,特别是涉及一种半导体器件闪烁噪声表征数据筛选方法。

背景技术

随着目前超大规模集成电路中模拟和射频电路的大量使用,影响电路模拟和射频性能的各种半导体器件的噪声特性及其SPICE(电路级模拟程序)建模仿真愈来愈引起人们的重视,在众多种类的噪声源中闪烁噪声(暨1/f噪声)会对半导体器件的低频、高频乃至射频性能带来十分严重的影响,通过建立基于实测数据的SPICE模型可以准确表征闪烁噪声的特性,为电路设计提供帮助。

闪烁噪声的功率密度频谱基本上与频率成反比,因此又被称作1/f噪声,它是一种很普遍的噪声现象,而且1/f噪声在MOSFET低频区域占主导地位的噪声。在MOSFET晶体管的SPICE模型中1/f噪声也是重要的部分,目前1/f噪声模型采用BSIM4的模型,但是噪声实验数据的波动较大,不同器件测得的噪声曲线存在较大差异,在多个偏压下测得的单个样品的噪声曲线可能会发生交叉的情况,这在模型拟合和参数提取中时不允许的。并且单个样品的测试数据结果不足以反映整个实验的真实情况,因此采用多个样品测试,并采用通过测试数据优选方案的数据作为1/f噪声模型精确拟合可用的实验数据就变得至关重要。

发明内容

本发明要解决的技术问题,本发明提供一种能获得准确闪烁噪声表征数据的半导体器件闪烁噪声表征数据筛选方法。

为解决上述技术问题,本发明提供半导体器件闪烁噪声表征数据筛选方法,包括以下步骤:

1)选取多个半导体样本;

2)设置多个测试频点;

3)获取相同的测试条件下每个半导体样本在每个测试频点的噪声频谱;

4)将多个半导体样本在同一个测试频点的噪声频谱按采集算法处理获得该测试频点的噪声频谱表征数据;

5)将所有测试频点的噪声频谱表征数据作为这种半导体器件闪烁噪声模型拟合的实验数据。

进一步改进所述半导体器件闪烁噪声表征数据筛选方法,所述采集算法为:计算多个半导体样本在同一个测试频点噪声频谱的中位数值作为该测试频点的噪声频谱表征数据。

进一步改进所述半导体器件闪烁噪声表征数据筛选方法,所述采集算法为:计算多个半导体样本在同一个测试频点噪声频谱的算术平均值作为该测试频点的噪声频谱表征数据。

进一步改进所述半导体器件闪烁噪声表征数据筛选方法,所述采集算法为:

计算多个半导体样本在同一个测试频点噪声频谱的中位数值和算术平均值;

计算多个半导体样本在上述测试频率点的中位数值和算术平均值的算数平均值,将该均值作为该测试频点的噪声频谱表征数据。

进一步改进所述半导体器件闪烁噪声表征数据筛选方法,实施步骤4)时,在采集算法处理各测试频点的噪声频谱前,先对各测试频点噪声频谱进行预降噪处理。

进一步改进所述半导体器件闪烁噪声表征数据筛选方法,所述预降噪处理是删除各个测试频点噪声频谱中大于标准偏差3-6倍的噪声频谱。标准偏差是一种量度数据分布的分散程度的标准,用以衡量数据值偏离算术平均值的程度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810058401.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top