[发明专利]一种柔性衬底及其制备方法、显示器件有效
申请号: | 201810051935.0 | 申请日: | 2018-01-19 |
公开(公告)号: | CN108447988B | 公开(公告)日: | 2022-03-18 |
发明(设计)人: | 孙冰;刘金强;刘晓佳 | 申请(专利权)人: | 云谷(固安)科技有限公司 |
主分类号: | H01L51/00 | 分类号: | H01L51/00;H01L51/56;H01L27/32 |
代理公司: | 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 | 代理人: | 杨波 |
地址: | 065500 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 柔性 衬底 及其 制备 方法 显示 器件 | ||
本发明公开了一种柔性衬底及其制备方法、显示器件,所述柔性衬底包括依次层叠的聚合物层和阻隔层;所述阻隔层包括含氧化钛成分的金属钛层以及至少一无机膜层。本发明公开的柔性衬底及其制备方法、显示器件,阻隔层包括含氧化钛成分的氧化钛层,一方面可作为水氧阻隔层、提高柔性衬底的水汽阻隔性能,另一方面可提高阻隔层的断裂变形率。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种柔性衬底及其制备方法、显示器件。
背景技术
应用于柔性有机电致发光器件的柔性衬底主要为聚合物衬底,例如聚酰亚胺(PI)。由于聚合物衬底自身的结构决定其水氧渗透率比较大,业内常用的方法是在PI衬底上镀上多层阻隔层来阻挡水氧的浸入。
发明人在实现本发明的过程中,发现现有技术存在的问题是:柔性衬底的阻隔层采用PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,等离子体增强化学的气相沉积法)方式形成SiO2和/或SiN结构作为水氧阻隔层。SiO2和/或SiN结构存在的问题在于SiO2、SiN有较低的断裂变形率,或在较低的弯曲形变量形成多孔结构从而使阻隔层失去水氧阻隔性导致器件失效。
发明内容
本发明的主要目的在于提出一种柔性衬底及其制备方法、显示器件,旨在解决现有技术存在的问题。
为实现上述目的,本发明实施例第一方面提供一种柔性衬底,所述柔性衬底包括依次层叠的聚合物层和阻隔层;
所述阻隔层包括含氧化钛成分的金属钛层以及至少一无机膜层。
可选的,所述金属钛层上设有光学透过区域。
可选的,所述无机膜层包括第一无机膜层和第二无机膜层;
所述第一无机膜层位于所述第一聚合物层和所述金属钛层之间,所述第二无机膜层位于所述金属钛层和所述第二聚合物层之间。
可选的,所述第一无机膜层的组成成分和所述第二无机膜层的组成成分可以相同或者不同。
可选的,所述第一聚合物层和所述第二聚合物层的材质包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯树脂或者聚酰亚胺。
另外,为实现上述目的,本发明实施例第二方面提供一种显示器件,所述显示器件包括第一方面所述的柔性衬底。
再者,为实现上述目的,本发明实施例第三方面提供一种柔性衬底的制备方法,所述方法包括步骤:
在聚合物层上形成无机膜层;
在所述无机膜层上通过金属钛的自钝化或者工艺氧化形成含氧化钛成分的金属钛层。
可选的,所述在聚合物层上形成无机膜层包括步骤:
在聚合物层上形成无机氧化物的无机膜层;
所述在所述无机膜层上通过金属钛工艺氧化形成含氧化钛成分的金属钛层包括步骤:
磁控溅镀金属钛,高温退火后在所述无机膜层上形成含氧化钛成分的金属钛层。
可选的,所述在聚合物层上形成无机膜层包括步骤:
在聚合物层上形成无机非氧化物的无机膜层;
所述在所述无机膜层上通过金属钛工艺氧化形成含氧化钛成分的金属钛层包括步骤:
磁控溅镀氧化钛、金属钛以及氧化钛,在所述无机膜层上形成含氧化钛成分的金属钛层。
可选的,所述方法还包括步骤:
在所述金属钛层上蚀刻形成光学透过区域。
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