[发明专利]一种气液一体化石英晶片旋转隔离式清洗装置

说明书

本发明公布了一种气液一体化石英晶片旋转隔离式清洗装置，它包括设在转盘上的气液清洗器；气液清洗器浸泡在内清洗池中；内清洗池外设置有环形清洗池；内清洗池与环形清洗池之间设置有过滤墙；气液清洗器包括盖板和底座；盖板和底座内部设有总气管；总气管通过连接软管连接；进气软管连接高压氮气供应系统；盖板和底座内壁上设置有进气孔和进液孔；进气孔连通总气管；盖板和底座外壁上设有导液叶片；底座内壁上设有放置凹槽；放置凹槽侧壁设有排出孔，排出孔连通总排出管，总排出管设置有分离管；分离管出口设置在环形清洗池内。它能实现一次对多个石英晶片进行均匀的气液清洗，污渍去除率高，清洗速度快，并使清洗后的石英晶片表面能快速干燥。

技术领域

本发明属于电子技术领域，具体为一种气液一体化石英晶片旋转隔离式清洗装置。

背景技术

石英晶体谐振器是利用具有压电效应的石英晶片而制成的谐振元件。由于石英晶体谐振器具有体积小、重量轻、可靠性高、频率稳定度优良等一系列优异特点，被广泛应用于通信、医疗、航空航天、武器装备等行业及领域中。在石英晶体谐振器的制造过程中，通常需要对石英晶片表面进行精密清洗，以保证裸露的石英晶片表面洁净，从而保证之后镀覆在石英晶片表面的金属电极具有较好的附着力。传统的石英晶片清洗方法一般通过将装有石英晶片的娄状载具浸泡在化学溶剂中进行振动清洗。这种简单的溶液清洗方法无法达到完全去除石英晶片上的污渍，同时清洗完后，溶液粘在石英晶片上长时间无法干燥去除，严重降低了石英晶片的清洗速度和石英晶片的清洗洁净度，导致后续的石英晶体谐振器生产质量降低，次品率提高，并且对于小尺寸的石英晶片，由于其长度、宽度及厚度的尺寸限制，通常是将批量的石英晶片混乱的装入篓中进行清洗，由于多个石英晶片堆叠在一起，容易产生清洗不均匀及清洗后表面残留不易干燥的问题。

发明内容

本发明的目的是针对以上问题，提供一种气液一体化石英晶片旋转隔离式清洗装置，它能实现一次对多个石英晶片进行均匀的气液清洗，污渍去除率高，清洗速度快，并使清洗后的石英晶片表面能快速干燥。

为实现以上目的，本发明采用的技术方案是：一种气液一体化石英晶片旋转隔离式清洗装置，它包括均匀呈环形设置在转盘边缘的气液清洗器；所述气液清洗器浸泡在内清洗池中；所述内清洗池外围设置有环形清洗池；所述内清洗池与环形清洗池之间设置有过滤墙；所述转盘中心设置有旋转轴；所述旋转轴连接电机；所述旋转轴设置在安装座上；所述安装座连接升降油缸；所述气液清洗器包括相互配合的盖板和底座；所述盖板和底座内部均设置有总气管；所述总气管一端密封，另一端通过连接软管相互连接；所述底座上的总气管还连通有进气软管；所述进气软管连接高压氮气供应系统；所述盖板和底座内壁上均匀设置有相互对应的进气孔；所述进气孔连通总气管；所述进气孔周围设置有贯穿内外壁的进液孔；所述盖板和底座外壁上设置有导液叶片；所述导液叶片位于进液孔侧边；所述底座内壁上均匀设置有放置凹槽；所述底座上的进气孔和进液孔均设置在放置凹槽底面上；所述盖板上的进气孔和进液孔位于放置凹槽上方；所述放置凹槽两侧壁设置有排出孔，所述排出孔连通总排出管，所述总排出管一端密封，另一端设置有分离管；所述分离管出口设置在环形清洗池内。

进一步的，所述转盘为空心壳体；所述转盘底面设置有与各个气液清洗器对应的连接孔；所述连接孔连接进气软管；所述旋转轴为空心轴；所述旋转轴连通转盘；所述旋转轴上端通过旋转接头连接高压氮气供应系统。

进一步的，所述底座尾端铰接在转盘上；所述底座尾端设置有固定螺栓；所述转盘上铰接有可挂住固定螺栓的挂环；所述转盘侧壁设置有与固定螺栓配合的螺纹孔。

进一步的，所述进液孔内均设置有单向阀。

进一步的，所述总排出管设置在底座内部两侧。

进一步的，所述放置凹槽底面上的进液孔设置有四个；所述进液孔均匀分布在进气孔两侧；所述排出孔设置在两进液孔中间位置；所述导液叶片设置有两排。

进一步的，所述分离管呈U型设置。