[发明专利]一种基于空心光尺寸调节的光镊操纵方法和装置有效
申请号: | 201810030382.0 | 申请日: | 2018-01-12 |
公开(公告)号: | CN108319028B | 公开(公告)日: | 2020-03-27 |
发明(设计)人: | 程雪梅;陈浩伟;贺博;张倩;白晋涛 | 申请(专利权)人: | 西北大学 |
主分类号: | G02B27/09 | 分类号: | G02B27/09;G02F1/35;G21K1/00 |
代理公司: | 西安恒泰知识产权代理事务所 61216 | 代理人: | 黄小梧 |
地址: | 710069 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 空心 尺寸 调节 操纵 方法 装置 | ||
1.一种基于空心光尺寸调节的光镊操纵方法,包括以下步骤:
步骤1,获取一束调制激光束(1)并将其聚焦于非线性介质(6)中;
步骤2,获取另一束被调制激光束(2)并将其入射于步骤1中所述的非线性介质(6)中,再通过第一偏振分光立方体(5)后入射到光镊系统;
步骤3,调节调制激光束(1)的光强和非线性介质(6)的位置使得入射到光镊系统的光束横截面为中心暗的空心圆环图样,即入射到光镊系统中的光束为空心光;
其特征在于,还包括以下步骤:
步骤4,将空心光扩束准直后通过一第三偏振分光立方体(13)使其分成两束子空心光;
所述两束子空心光为第一子空心光和第二子空心光,所述第一子空心光为空心光通过第三偏振分光立方体(13)后反射的一束子空心光,所述第二子空心光为空心光穿过第三偏振分光立方体(13)的一束子空心光;
步骤5,将第一子空心光入射到第一成像装置(15)中;第二子空心光经过第四聚焦透镜(14)汇聚到样品池(16)中,所述样品池(16)中喷入有样品微粒(17),且所述样品微粒(17)被第二子空心光捕获在其光阱位置;
步骤6,通过调节调制激光束(1)的光强来调节第一子空心光和第二子空心光的尺寸,即调节样品微粒(17)在第二子空心光的光轴上进行运动,并通过第二成像装置(18)记录样品微粒(17)的运动情况;
所述步骤2中获取另一束被调制激光束(2)并将其入射于步骤1中所述的非线性介质(6)中,再通过第一偏振分光立方体(5)后入射到光镊系统,包括:
将被调制激光束(2)入射于步骤1中所述的非线性介质(6)中,使其与步骤1所述的调制激光束(1)反向共线传播,被调制激光束(2)从非线性介质(6)出射后通过第一偏振分光立方体(5)进入光镊系统;
所述步骤3中调节非线性介质(6)的位置使其置于调制激光束(1)汇聚焦点位置;
所述非线性介质(6)是指能够产生kerr效应和热效应的非线性介质;
所述调制激光束(1)和被调制激光束(2)均具有高斯型光强分布。
2.一种基于空心光尺寸调节的光镊操纵装置,其特征在于,包括聚焦透镜(3)、第一半波片(4)、第二半波片(7)、第一偏振分光立方体(5)、第二偏振分光立方体(8)、非线性介质(6)和光镊系统,所述聚焦透镜(3)、第一半波片(4)、第一偏振分光立方体(5)、非线性介质(6)和第二偏振分光立方体(8)依次设置在同一光路传播的水平面上,所述第二半波片(2)位于第二偏振分光立方体(8)的正上方,所述光镊系统位于第一偏振分光立方体(5)的下方;
所述光镊系统包括高反射镜(9)、第二聚焦透镜(10)、第三聚焦透镜(11)、第三半波片(12)、第四聚焦透镜(14)、样品池(16)、第三偏振分光立方体(13)、第一成像装置(15)、第二成像装置(18),所述高反射镜(9)位于第一偏振分光立方体(5)的正下方,所述高反射镜(9)、第二聚焦透镜(10)、第三聚焦透镜(11)、第三半波片(12)、第四聚焦透镜(14)和样品池(16)依次设置在同一光路传播的水平面上,所述第一成像装置(15)位于第三偏振分光立方体(13)的正下方,第二成像装置(18)位于样品池(16)的正下方;
所述第一成像装置(15)和第二成像装置(18)为CCD或CMOS器件。
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