[发明专利]立式周向循环连续式气相沉积设备

说明书

本发明涉及一种立式周向循环连续式气相沉积设备，包括主腔室、进料腔室及进料口开合系统、工艺腔室及气相沉积组件、转架系统、腔室升降系统、真空系统及真空管道，真空系统将主腔室、进料腔室及工艺腔室通过各自独立的真空管道进行真空处理，进料腔室及工艺腔室通过气动升降机构驱动进料腔室及工艺腔室升降，将进料腔室及工艺腔室在与主腔室联通的状态及独立真空腔室的状态之间切换，气相沉积组件侧向安装于各工艺腔室，并通过可收缩的波纹管道连接于真空室外，实现不同的镀膜功能。转架系统包括转盘、双转盘转动机构、转盘转动机构驱动转盘公转或定点自转，将工件在进料腔室及工艺腔室之间传递及定点镀膜，实现周向快速连续式真空镀膜。

技术领域

本发明属于气相沉积设备技术领域，具体涉及一种立式周向循环连续式气相沉积设备。

背景技术

现有的气相沉积设备按照真空腔的数目可分为单体式镀膜机及连续式镀膜设备。

单体式镀膜机通常是有一个真空腔体及抽气系统组成，真空镀膜工艺模块装载在腔体不同位置上，在达到所需真空度时，按顺序启用所需真空镀膜工艺模块，来实现材料表面的加工，单一腔体导致产品进出料时需要开关门，不能对产品进行连续生产，这会大大降低生产效率，增大人工成本，而且生产的不连续性造成实际生产中的产品差异性增大，一定程度上会影响产品质量。同时单体式镀膜转架在腔体内公转，转架往往比较大，等离子体在整个镀膜空间的分布极其不均匀，真正镀膜时间短，镀膜等待时间过长，严重影响产品质量，镀膜效率低。

自动连续式气相沉积设备是多个独立的镀膜腔的真空镀膜装置，具有连续不间断生产、工艺稳定、生产节拍短的特点，目前大量应用于工业生产。连续式气相沉积设备可以大大提高生产的自动化程度，提高生产效率，提高良品率。

现有技术中的连续式气相沉积设备包含具有复数独立的镀膜腔、具有清洁缓冲腔及缓冲真空腔的缓冲真空装置、具有前置准备腔及完成腔的准备装置、传送装置及包括复数闸门的闸门单元。

连续式气相沉积设备结构复杂，多个独立的镀膜腔需要配置多个高真空泵组，大量闸门的使用，增加了生产成本、生产时间、生产空间，复杂的设备增加了待镀工件传动的难度，多个腔体的存在也使增加了生产过程中故障维修的难度和成本，连续式镀膜设备的高门槛大大提高了企业的使用成本；此外，现有的连续式气相沉积设备对于一些多面、异形的产品（如铣刀、卫浴产品）设计能够实现自转的特种镀膜设备时，受真空门阀高成本及大型翻板阀或插板阀难加工、传动过程的复杂、生产成本的限制，很难设计生产出能够实用的量产机。

发明内容

针对现有技术存在的不足，本发明的目的在于提供一种在一个真空腔内实现对产品连续式镀膜生产的立式周向循环连续式气相沉积设备。

为实现上述目的，本发明提供了如下技术方案：包括主腔室、进料腔室及进料口开合系统、工艺腔室及气相沉积组件、可定点自转的转架系统、真空系统及真空管道，真空系统将主腔室、进料腔室及工艺腔室通过各自独立的真空管道进行真空处理，进料腔室及工艺腔室的真空管道通过波纹管连接于主腔室及真空系统，进料腔室及工艺腔室通过气动升降机构驱动进料腔室及工艺腔室升降，将进料腔室及工艺腔室在与主腔室联通的状态及独立真空腔室的状态之间切换，气相沉积组件侧向安装于各工艺腔室，并通过可收缩的波纹管道连接于真空室外。气相沉积组件为磁控溅射模块、多弧离子镀模块、离子清洗模块、离子辅助化学气相沉积模块及化学气相沉积模块的其中一种，实现不同的镀膜功能，转架系统包括转盘、双转盘转动机构、转盘转动机构驱动转盘公转或定点自转，将待镀工件在进料腔室及工艺腔室之间传递及定点自转镀膜。