[发明专利]立式周向循环连续式气相沉积设备

权利要求书

1.一种立式周向循环连续式气相沉积设备，其特征在于：包括主腔室、进料腔室及进料口开合系统、工艺腔室及气相沉积组件、可定点自转的转架系统、真空系统及真空管道，真空系统将主腔室、进料腔室及工艺腔室通过各自独立的真空管道进行真空处理，进料腔室及工艺腔室的真空管道通过波纹管连接于主腔室及真空系统，进料腔室及工艺腔室通过气动升降机构驱动进料腔室及工艺腔室升降，将进料腔室及工艺腔室在与主腔室联通的状态及独立真空腔室的状态之间切换，气相沉积组件侧向安装于各工艺腔室，并通过可收缩的波纹管道连接于真空室外。

2.气相沉积组件为磁控溅射模块、多弧离子镀模块、离子清洗模块、离子辅助化学气相沉积模块及化学气相沉积模块的其中一种，实现不同的镀膜功能，转架系统包括转盘、双转盘转动机构、转盘转动机构驱动转盘公转或定点自转，将待镀工件在进料腔室及工艺腔室之间传递及定点自转镀膜。

3.根据权利要求书1所述根据权利要求书1所述的立式周向循环连续式气相沉积设备，其特征在于：转盘转动机构驱动转盘水平转动设置于主腔室内，所述的进料腔室及两个以上工艺腔室位于转盘上方并沿转盘周向等距排布，所述的进料腔室及工艺腔室底部设置有朝向转盘的密封口，所述的气动升降机构驱动进料腔室及工艺腔室升降，所述的进料腔室与转盘接触时将密封口封闭，并构成进料腔室，所述的工艺腔室与转盘接触时将密封口封闭，并构成工艺腔室，所述的转盘上方用于放置待镀工件，并将待镀工件在进料腔室及各工艺腔室之间传递，所述的进料口开合系统设置有将待镀工件从外界直接放入进料腔室的联通密封机构，所述的气相沉积组件可拆卸的安装于工艺腔室且各气相沉积组件的功能不同，所述的进料腔室设置有独立的真空管道连接于真空系统，将进料腔室真空处理或恢复大气压，所述的工艺腔室设置有独立的真空管道连接于真空系统，形成稳定工艺腔室工作气压的工艺真空系统。

4.根据权利要求书1所述的立式周向循环连续式气相沉积设备，其特征在于：所述的联通密封机构包括基部、伸缩波纹管及联通口，所述的进料腔室设置有联通口，所述的基部为环形构件并贯穿于主腔室的腔室壁，所述的基部位于腔室外侧的端部设置有密封门板，所述的伸缩波纹管一端固定于基部位于腔室内侧的端部，另一端与联通口相对应，所述的基部设置有驱动伸缩波纹管与联通口相对应的端部密封贴合联通口或远离联通口的伸缩机构。

5.根据权利要求书1所述的立式周向循环连续式气相沉积设备，其特征在于：所述的真空系统包括真空波纹管及放气波纹管，所述的真空波纹管一端延伸至进料腔室并与进料腔室联通，另一端延伸至主腔室壁并设置有调节口，所述的调节口设置有外接抽气系统，所述的外接抽气系统对进料腔室进行真空处理，所述的放气波纹管一端延伸至进料腔室并与进料腔室联通，另一端延伸至主腔室壁并设置有放气口，所述的放气口设置有放气机构。

6.根据权利要求书1所述的立式周向循环连续式气相沉积设备，其特征在于：所述的转盘分别与进料腔室及各工艺腔室对应设置有安装待镀工件且具有自转功能的挂具组件。

7.根据权利要求书5所述的立式周向循环连续式气相沉积设备，其特征在于：各所述的挂具组件底部设置有与转盘转动配合的转轴，所述的主腔室设置有与转盘同轴转动的自转齿盘及驱动自转齿盘转动的自转电机，各所述的转轴外周设置有与自转齿盘相啮合的齿形部件。

8.根据权利要求书1所述的立式周向循环连续式气相沉积设备，其特征在于：所述的气相沉积组件为磁控溅射模块或多弧离子镀模块或离子清洗模块或离子辅助化学气相沉积模块或化学气相沉积模块。