[发明专利]半成品显示用基板及制备方法、半成品显示面板、显示面板的制备方法

权利要求书

1.一种半成品显示用基板，其特征在于，包括：衬底基板、设置在所述衬底基板的第一表面上的整个区域设置的光刻胶层、设置在所述衬底基板的第二表面上的第一膜层和剥离所述光刻胶层后在所述衬底基板上的所述第一表面形成的触控层；

其中，所述第一表面和所述第二表面为所述衬底基板的相对的两个表面；所述光刻胶层的厚度为2.5～5.0μm；

所述第一膜层包括彩色膜层、黑矩阵、平坦层和隔垫物中的至少一种；

在形成所述第一膜层前在所述衬底基板的第一表面上形成所述光刻胶层。

2.一种半成品显示面板，其特征在于，包括如权利要求1所述的半成品显示用基板；

其中，所述半成品显示用基板上的光刻胶层位于所述半成品显示面板的表面。

3.根据权利要求2所述的半成品显示面板，其特征在于，所述半成品显示面板为液晶显示面板；所述液晶显示面板包括相对设置的阵列基板和对盒基板，所述半成品显示用基板为所述阵列基板或所述对盒基板。

4.根据权利要求2所述的半成品显示面板，其特征在于，所述半成品显示面板为有机电致发光显示面板；

所述有机电致发光显示面板包括OLED基板和用于封装所述OLED基板的封装盖板；所述半成品显示用基板为所述OLED基板或所述封装盖板；

或者，所述有机电致发光显示面板包括OLED基板和封装所述OLED基板的封装膜层；所述半成品显示用基板为所述OLED基板。

5.一种半成品显示用基板的制备方法，其特征在于，包括：

在衬底基板的第一表面形成一层光刻胶层；

在所述衬底基板的第二表面形成第一膜层；

剥离权利要求2-4任一项所述的半成品显示面板中半成品显示用基板的衬底基板的第一表面上的光刻胶层；

在所述第一表面上形成第二膜层；其中，所述第一表面和所述第二表面为所述衬底基板的相对的两个表面；

所述光刻胶层的厚度为2.5～5.0μm；

所述第一膜层包括彩色膜层、黑矩阵、平坦层和隔垫物中的至少一种；或，

所述第一膜层包括栅极、栅绝缘层、源漏极、有源层、像素电极和平坦层中的至少一种；

所述第二膜层包括触控层。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，在剥离所述光刻胶层之后，形成所述第二膜层之前，所述制备方法还包括：

对所述第一表面进行清洗。